Патенты с меткой «осаждения»
Способ осаждения легированных фосфором пленок кремния
Номер патента: 18138
Опубликовано: 30.04.2014
Авторы: Наливайко Олег Юрьевич, Турцевич Аркадий Степанович, Трусов Виктор Леонидович, Солодуха Виталий Александрович, Пшеничный Евгений Николаевич
МПК: C23C 16/56, C23C 16/30, H01L 21/205...
Метки: легированных, кремния, фосфором, способ, пленок, осаждения
Текст:
...сопротивления. И, наконец, формирование аморфного подслоя кремния способствует снижению общей шероховатости осаждаемой пленки. При температуре осаждения ниже 540 С существенно снижается скорость осаждения,что снижает производительность процесса. При температуре выше 560 С осаждается аморфно-кристаллический подслой кремния, что приводит к повышению шероховатости поверхности осажденных пленок, а также к сегрегации фосфора на границах...
Электролит для химического осаждения композиционного покрытия никель-фосфор-фторопласт (варианты)
Номер патента: 18117
Опубликовано: 30.04.2014
Авторы: Григорьев Андрей Яковлевич, Мышкин Николай Константинович, Гуцев Дмитрий Михайлович
МПК: C23C 18/36
Метки: покрытия, осаждения, никель-фосфор-фторопласт, электролит, композиционного, химического, варианты
Текст:
...фторопласта 4. Таблица 1 Составы для получения - покрытий Реагент Концентрация 1 никель сернокислый 25-30 г/л натрий уксуснокислый 10-12 г/л гипофосфит натрия 15-18 г/л фторопласт-4 10-15 г/л вода остальное 2 хлорид никеля 21 г/л натрии уксуснокислый 10-12 г/л гипофосфит натрия 20-24 г/л фторопласт-4 10-15 г/л вода остальное Сущность изобретения заключается в том, что введение в раствор химического никелирования мелкодисперсных частиц...
Способ фотоселективного электрохимического осаждения меди на поверхность кремниевой пластины p-типа проводимости
Номер патента: 17444
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Иванов Дмитрий Константинович, Стрельцов Евгений Анатольевич, Иванова Юлия Александровна, Кулак Анатолий Иосифович
МПК: H01L 21/18, C25D 3/38, C25D 7/12...
Метки: электрохимического, меди, пластины, кремниевой, p-типа, осаждения, проводимости, способ, фотоселективного, поверхность
Текст:
...поддержания потенциала кремниевого электрода и для устойчивого поддержанияэлектролита, а увеличение содержания 33 более 0,7 моль/л ограничено растворимостью данного соединения в воде. Влияние концентрации компонентов и потенциалов на селективность процесса осаждения меди сопоставлено в таблице. Зависимость величины фототока, темнового тока осаждения меди на -кремний и степени селективности(отношение массы меди, осаждающейся под...
Способ осаждения тонких пленок SiGe
Номер патента: 15299
Опубликовано: 30.12.2011
Авторы: Турцевич Аркадий Степанович, Солодуха Виталий Александрович, Наливайко Олег Юрьевич, Комаров Фадей Фадеевич, Лепешкевич Геннадий Вольдемарович, Пшеничный Евгений Николаевич
МПК: C23C 16/30, H01L 21/205
Метки: способ, тонких, пленок, осаждения
Текст:
...осаждения, с другой стороны, с уменьшением температуры возрастает содержаниев пленкахпри одинаковых концентрациях моногермана в газовой фазе. При температурах ниже 560 скорость осаждения пленок нелегированного кремния при пониженном давлении становится менее 2,0 нм/мин, что позволяет увеличить длительность осаждения пленок толщиной 25 нм до 12 минут, что способствует повышению управляемости и воспроизводимости процесса осаждения по толщине и...
Способ химического осаждения из газовой фазы пленок вольфрама
Номер патента: 15149
Опубликовано: 30.12.2011
Авторы: Солодуха Виталий Александрович, Сидерко Александр Александрович, Каленик Вера Ивановна, Наливайко Олег Юрьевич, Турцевич Аркадий Степанович
МПК: C23C 16/14, H01L 21/285
Метки: химического, фазы, вольфрама, газовой, способ, осаждения, пленок
Текст:
...от 360 до 475 С и давлении от 4 до 60 мм рт.ст., с подачей или без подачи азота, прекращение подачи моносилана и гексафторида вольфрама, создание в реакторе давления для осаждения основного слоя и осаждение основного слоя вольфрама восстановлением гексафторида вольфрама водородом при температуре от 360 до 475 С и давлении от 70 до 90 мм рт.ст. перед осаждением зародышевого слоя проводят выдержку пластины в среде моносилана с потоком от...
Раствор для химического осаждения медно-кобальтового покрытия
Номер патента: 15104
Опубликовано: 30.12.2011
Авторы: Якубовская Светлана Владимировна, Кульбицкая Людмила Викторовна, Корбит Александр Анатольевич, Бабаскина Светлана Юрьевна
МПК: C23C 18/48
Метки: раствор, химического, покрытия, медно-кобальтового, осаждения
Текст:
...осаждаемого покрытия и, во-вторых, способствующего поддержанию постоянной скорости процесса, так как пассивация замедляет процесс осаждения сплава вплоть до 3 15104 1 2011.12.30 полной его остановки. Кроме того, блоксополимер окисей этилена и пропилена обеспечивает равномерность нанесения покрытия на покрываемую сплавом поверхность, а также равномерность распределения металлов в сплаве. Благодаря вводимому в раствор блоксополимеру окисей...
Электролит для скоростного электрохимического осаждения никелевых покрытий
Номер патента: 14193
Опубликовано: 30.04.2011
Авторы: Воробьева Татьяна Николаевна, Кузнецов Борис Викторович
МПК: C25D 3/12
Метки: скоростного, электрохимического, никелевых, осаждения, электролит, покрытий
Текст:
...устойчив при хранении и эксплуатации. В течение 1,0 ч получено равномерное блестящее покрытие толщиной 120 мкм, что соответствует скорости роста покрытия 120 мкм/ч и выходу никеля по току 90 . Покрытие имеет хорошую адгезию к стальной подложке (не отслаивается после проведения термоудара). Покрытие практически беспористо, на его поверхности нет питтинга. Покрытие устойчиво к коррозии в камере тепла и влаги в течение месяца. Пример 7. На...
Раствор для электрохимического осаждения композиционного покрытия на корпусные алмазные режущие диски
Номер патента: 12815
Опубликовано: 28.02.2010
Авторы: Гаевская Татьяна Васильевна, Гайдук Илья Леонидович, Васильев Валерий Лукич, Ковальчук Геннадий Филиппович, Цыбульская Людмила Сергеевна
МПК: C25D 3/12, C25D 15/00
Метки: осаждения, алмазные, композиционного, режущие, электрохимического, корпусные, раствор, покрытия, диски
Текст:
...(472) более 400 г/л приводит к дестабилизации процесса электрокристаллизации КЭП, осаждению кристаллов соли никеля на корпусе режущего диска. Увеличение концентрации никеля хлористого (262) более 80 г/л способствует повышению скорости растворения анодов, снижает буферную емкость прикатодного слоя и ухудшает прочность сцепления КЭП с корпусом. Уменьшение концентрации никеля хлористого менее 15 г/л и никеля сернокислого менее 200 г...
Способ осаждения пленки полуизолирующего поликристаллического кремния
Номер патента: 12058
Опубликовано: 30.06.2009
Авторы: Емельянов Виктор Андреевич, Турцевич Аркадий Степанович, Соловьев Ярослав Александрович, Наливайко Олег Юрьевич, Лепешкевич Геннадий Вольдемарович
МПК: H01L 21/02, C23C 16/455, B05D 5/12...
Метки: поликристаллического, кремния, способ, пленки, полуизолирующего, осаждения
Текст:
...Данные загрязнения формируются при межоперационном хранении кремниевых пластин с кристаллами ИСМЭ (от очистки поверхности кремния до начала осаждения пленки ППК) и обусловливают катастрофическое увеличение поверхностной проводимости кремния. Причиной их возникновения является наличие оборванных связей атомов кремния на поверхности, что усиливает адсорбцию поверхностных загрязнений. Формирование относительно тонкого слоя химического оксида...
Устройство подачи паров жидкого вещества в реактор установки химического осаждения из газовой фазы
Номер патента: 11859
Опубликовано: 30.04.2009
Авторы: Сидерко Александр Александрович, Наливайко Олег Юрьевич, Пшеничный Евгений Николаевич, Плебанович Владимир Иванович
МПК: G05D 23/00, F24H 9/02, B01F 03/04...
Метки: осаждения, установки, устройство, подачи, вещества, паров, химического, фазы, реактор, газовой, жидкого
Текст:
...использование резервуара меньшей емкости (например, 5 литров или менее). Использование обогреваемого трубопровода для подачи паров жидкого вещества в реактор технологической установки позволяет исключить конденсацию паров и засорение трубопровода. Для исключения конденсации паров внутри трубопровода необходимо обеспечить нагрев трубопровода до температуры на 2-5 С выше температуры паров жидкого вещества. Использование измерителя потока паров...
Способ получения распыляемой мишени для осаждения тонких пленок
Номер патента: 10821
Опубликовано: 30.06.2008
Авторы: Шевченок Александр Аркадьевич, Ильющенко Александр Федорович, Гулай Анатолий Владимирович, Барай Сергей Георгиевич
МПК: H01L 21/00, B22F 3/08
Метки: мишени, пленок, способ, осаждения, получения, тонких, распыляемой
Текст:
...свежего порошка во вторичный позволяет довести параметры материала шихты практически до уровня параметров первичного материала, а также получить качество последующих технологических операций на том же уровне, что и при использовании только первичного порошка. После этого производят активирование шихты путем ее обработки в ультразвуковой ванне в дистиллированной воде или этиловом спирте с последующей сушкой в сушильном шкафу. Затем...
Раствор для безэлектролизного осаждения пленок золота на никелевые покрытия
Номер патента: 10283
Опубликовано: 28.02.2008
Авторы: Врублевская Ольга Николаевна, Воробьева Татьяна Николаевна, Венгура Андрей Викторович
МПК: C23C 18/31
Метки: осаждения, золота, раствор, пленок, безэлектролизного, никелевые, покрытия
Текст:
...известных растворов безэлектролизного золочения. По показателям качества пленки золота, получаемые из заявляемого раствора, превышают достигаемые по прототипу. Так, они имеют толщину 0,08-0,12 мкм,характеризуются равномерностью, хорошей адгезией к подложке, плотной упаковкой зерен и их малыми (десятки нанометров) размерами, способностью к пайке, ультразвуковой сварке (что свидетельствует о чистоте золота), хорошей защитной способностью...
Способ осаждения пленки фосфоросиликатного стекла
Номер патента: 8991
Опубликовано: 28.02.2007
Авторы: Ануфриев Леонид Петрович, Турцевич Аркадий Степанович, Становский Владимир Владимирович, Соловьев Ярослав Александрович, Шкуратов Александр Георгиевич
МПК: H01L 21/316, C23C 16/40, C23C 16/455...
Метки: пленки, стекла, осаждения, способ, фосфоросиликатного
Текст:
...реактор, после осаждения пленки фосфоросиликатного стекла требуемой толщины прекращают подачу в реактор паров фосфоросодержащего соединения,осаждают адгезионный слой двуокиси кремния толщиной 10-25 нм без изменения температуры реактора и давления и прекращают подачу паров тетраэтоксисилана, при этом в качестве фосфоросодержащего соединения используют диметилфосфит, триэтилфосфит,триметилфосфит или триметилфосфат, дополнительно...
Металлический компонент с обработанной поверхностью для армирующих структур для изделий, изготовленных из вулканизованного эластомерного материала, армирующая структура, изделие(варианты) и способ электролитического осаждения сплава
Номер патента: 8789
Опубликовано: 30.12.2006
Авторы: РАТТИ Джузеппина, ПАВАН Федерико
МПК: B29B 15/14, C25D 3/56
Метки: изготовленных, компонент, структура, металлический, изделий, обработанной, изделие(варианты, вулканизованного, осаждения, армирующая, электролитического, поверхностью, сплава, структур, эластомерного, способ, армирующих, материала
Текст:
...покрытие на стальной компонент из металла или из металлического сплава для того, чтобы создать для стали коррозионную стойкость и обеспечить хорошую адгезию к вулканизованному эластомерному материалу.Более того, при том условии, что уже имеется нанесенное покрытие, упомянутая стальная проволока подвергается процессу вытяжки, который проводится несколько раз до тех пор, пока не будут достигнуты требуемые размеры проволоки. Покрытие на...
Способ электрохимического осаждения защитно-декоративных покрытий на поверхность сплава ЦАМ
Номер патента: 7657
Опубликовано: 30.12.2005
Авторы: Воробьева Татьяна Николаевна, Рева Ольга Владимировна
МПК: C25D 5/42
Метки: покрытий, сплава, поверхность, осаждения, электрохимического, способ, защитно-декоративных, цам
Текст:
...Результат почти удовлетворительный, травление детали равномерно с мелкими дефектами, при промывке сплав не реагирует с водой, в электролите никелирования деталь покрывается равномерным мелкозернистым плотным слоем никеля. Свойства покрытия приведены в таблице. Пример 6. Деталь из сплава ЦАМ обезжиривают, промывают проточной водой и протравливают в растворе гидроксида калия с концентрацией 220 г/л в течение 2-3 мин. Протравленную 3 7657 1...
Раствор для катодного электрохимического осаждения на поверхность меди медьсодержащих окрашенных защитно-декоративных покрытий
Номер патента: 7637
Опубликовано: 30.12.2005
Авторы: Рева Ольга Владимировна, Воробьева Татьяна Николаевна, Врублевская Ольга Николаевна
МПК: C25D 3/38
Метки: медьсодержащих, осаждения, меди, раствор, защитно-декоративных, окрашенных, поверхность, покрытий, электрохимического, катодного
Текст:
...г/л меди сульфат 45 натрия гидроксид 30 сахароза 60 натрия хлорид 5 калия пирофосфат 30 вода до 1 л. Электроосаждение проводят при комнатной температуре в течение 10 мин при плотности тока 0,01 А/дм 2. Деталь промывают холодной проточной водой и сушат обдувом теплым воздухом. Получают медьсодержащее покрытие золотистого цвета свойства приведены в таблице 1 - качество покрытий и стабильность раствора удовлетворительны. Пример 4 Медную...
Способ осаждения меди, свободной от аммония, путем диспропорционирования
Номер патента: 5887
Опубликовано: 30.03.2004
Авторы: СОЛТЫС, Джозеф
МПК: C23C 18/38, B05D 1/18
Метки: меди, аммония, свободной, осаждения, способ, диспропорционирования, путем
Текст:
...по п. 23, отличающаяся тем, что водный раствор восстановителя ионов двухвалентной меди дополнительно содержит антиагломерирующий агент в количестве 1-200 г/л на 1 моль соли меди.27. Система по п. 21, отличающаяся тем, что водный раствор кислотного активатора содержит оксикарбоновую кислоту или ее соль в количестве не более, чем примерно 1 моль на 1 моль гидроксида одновалентной меди.28. Система по п. 21, отличающаяся тем, что водный раствор...
Способ химического осаждения из растворов покрытий из золота
Номер патента: 5520
Опубликовано: 30.09.2003
Авторы: Рухля Владимир Анатольевич, Воробьёва Татьяна Николаевна, Бобровская Валентина Павловна, Римская Анна Анатольевна
МПК: C23C 18/44
Метки: золота, способ, растворов, осаждения, химического, покрытий
Текст:
...к замедленному осаждению золота, к неравномерности пленок золота, к ухудшению их адгезии и способности к пайке и сварке. Снижение температуры раствора химического никелирования также не позволяет получать пленки золота нужного качества. Осаждение золота из любого другого раствора химического золочения, кроме предложенного, на подслой либо из гальванического никеля, либо из химически осажденногоили - не обеспечивает сочетание таких...
Раствор для химического осаждения сплава никель-бор на диэлектрик
Номер патента: 5295
Опубликовано: 30.06.2003
Авторы: Ракович Елена Васильевна, Гаевская Татьяна Васильевна
МПК: C23C 18/34
Метки: раствор, сплава, осаждения, диэлектрик, никель-бор, химического
Текст:
...обезжиривают, травят,сенсибилизируют в растворе хлорида олова (5-20 г/л) и активируют в растворе хлорида палладия (0,03-0,3 г/л) по известной технологии 3. После каждой операции проводится тщательная промывка в дистиллированной воде. В процессе испытаний оценивали время формирования токопроводящего покрытия из сплава никель-бор. Удельную электропроводность пленочного покрытия никель-бор измеряли с помощью омметра. Результаты испытаний...
Способ получения распыляемых мишеней для осаждения тонких пленок
Номер патента: 4682
Опубликовано: 30.09.2002
Авторы: Колешко Владимир Михайлович, Гулай Анатолий Владимирович, Полынкова Елена Владимировна, Шевченок Александр Аркадьевич
МПК: H01J 37/34, H01J 37/32, C23C 14/34...
Метки: осаждения, тонких, пленок, получения, распыляемых, способ, мишеней
Текст:
...кроме этого образуют соединения состава 23 и . Получение мишеней в соответствии с заявляемым способом осуществляется следующим образом. Из медного листа вырезают пластины необходимого размера, служащие теплоотводящим основанием для графитовой мишени (фиг. 1). Затем на пластины наносят гранулы из материала на основе меди (фиг. 2). Диаметр гранул может быть равен 0,2-0,8 мм, толщина слоя гранул 1 мм. Полученная композиция подвергается...
Способ электрохимического катодного осаждения рения и раствор для его осуществления
Номер патента: 4417
Опубликовано: 30.03.2002
Авторы: Гаврилов Михаил Игоревич, Петрович Владимир Алексеевич
МПК: C25D 3/02
Метки: электрохимического, осаждения, катодного, рения, осуществления, способ, раствор
Текст:
...быть близким к количеству электричества, достаточного для покрытия всей поверхности катода моноатомным слоем водорода(0,51,5).(1) При несоблюдении данного условия либо начнется выделение газообразного водорода (при больших ),либо будет нехватка электронов, и, следовательно, ионов Н (при меньших ), необходимых для протекания процесса, что приведет к снижению эффективности процесса. Для предотвращения ухода анионов - с поверхности катода с...
Способ осаждения пленок фосфоросиликатного стекла
Номер патента: 3924
Опубликовано: 30.06.2001
Авторы: Емельянов Виктор Андреевич, Наливайко Олег Юрьевич, Смагин Дмитрий Леонидович, Буслов Игорь Иванович, Пшеничный Евгений Николаевич
МПК: H01L 21/316
Метки: пленок, фосфоросиликатного, стекла, осаждения, способ
Текст:
...концентрации фосфора в пленке, так как соотношение потоков ТЭОС/ДМФ поддерживается более точно. Дополнительным преимуществом является более экономное использование реагентов. При температуре испарителя ТЭОС ниже 50 С из-за относительно низкого давления паров реагентов снижается скорость осаждения, что повышает издержки производства. При температуре испарителя ТЭОС более 70 С из-за относительно высокого давления паров трудно...
Электролит для гальванического осаждения медного покрытия
Номер патента: 3459
Опубликовано: 30.09.2000
Авторы: Иванова Наталья Петровна, Дроздов Павел Геннадьевич, Жарский Иван Михайлович, Капица Марина Сергеевна
МПК: C25D 3/38
Метки: покрытия, медного, гальванического, осаждения, электролит
Текст:
...ионов. Данная композиция приводит к значительному катодному ингибированию процессов электрокристаллизации меди, приводящих не только к измельчению зерна, но и изменению направления роста граней кристаллов, вызывая их строго упорядоченную ориентацию. Все эти факторы влияют на значительное уменьшение шероховатостей (до 0,084-0,073 мкм) покрытий и получению практически беспористых медных осадков с достаточно высоким (до 95 ) выравниванием при...
Способ осаждения пленки фосфоросиликатного стекла
Номер патента: 2883
Опубликовано: 30.06.1999
Авторы: Наливайко Олег Юрьевич, Макаревич Игорь Иванович, Турцевич Аркадий Степанович, Сосновский Владимир Арестархович
МПК: H01L 21/316
Метки: фосфоросиликатного, осаждения, способ, пленки, стекла
Текст:
...существенно снижается концентрация соединений фосфора на выхлопе реактора, что позволяет использовать скруббер без дожигания. В выбранном диапазоне температуры испарителя давление паров диметилфосфита составляет 1.812 мм рт. ст. При температуре испарителя ниже 20 С усложняется управление процессом по концентрации фосфора и не обеспечивается необходимая концентрация фосфора в пленке из-за резкого снижения парциального давления паров ДМФ....
Способ осаждения пленок фосфоросиликатного стекла
Номер патента: 2531
Опубликовано: 30.12.1998
Авторы: Красницкий Василий Яковлевич, Турцевич Аркадий Степанович, Тихонов Владимир Ильич, Наливайко Олег Юрьевич
МПК: H01L 21/316
Метки: способ, фосфоросиликатного, осаждения, пленок, стекла
Текст:
...определяется именно этим соотношением. Поэтому контроль за содержанием фосфора в пленке предельно облегчается. Кроме того, так как не используется фосфин, то и уровень привносимой дефектности снижается и повышается однородность осаждаемых пленок по толщине, а также реализуется процесс осаждения фосфоросиликатного стекла без использования высокотоксичного фосфина. Дополнительным преимуществом является некоторое сокращение площади, занимаемой...
Способ осаждения пленки борофосфоросиликатного стекла
Номер патента: 2502
Опубликовано: 30.12.1998
Авторы: Наливайко Олег Юрьевич, Турцевич Аркадий Степанович, Красницкий Василий Яковлевич, Захарик Сергей Владимирович, Аношин Валерий Михайлович
МПК: H01L 21/316
Метки: способ, борофосфоросиликатного, пленки, стекла, осаждения
Текст:
...содержанием фосфора и бора в пленке предельно упрощается. Подача ДМФ и ТСМБ по дополнительной паре инжекторов с газом-носителем - азотом непосредственно в зону реакции позволяет подавить возможные реакции с образованием побочных продуктов, что подтвер 2 2502 1 ждается результатами эксперимента и, следовательно, повысить качество осаждаемых пленок БФСС за счет снижения уровня привносимой дефектности. При подаче ТМФ и ТСМБ по той же паре...
Способ осаждения пленки борофосфоросиликатного стекла
Номер патента: 1613
Опубликовано: 30.03.1997
Авторы: Макаревич Игорь Иванович, Корешков Геннадий Анатольевич, Турцевич Аркадий Степанович, Кабаков Михаил Михайлович, Наливайко Олег Юрьевич
МПК: H01L 21/316
Метки: борофосфоросиликатного, способ, стекла, пленки, осаждения
Текст:
...издержки производства. 1613 1 При температуре испарителя с ТЭОС выше 75 С повышаются расход ТЭОС и неоднородность толщины пленок. При температуре реактора ниже 650 С снижается скорость осаждения и повышаются издержки производства, а также ухудшается конформность воспроизведения топологического рельефа. При температуре реактора выше 750 С ухудшается управляемость процесса по толщине и концентрациям фосфора и бора. При температуре испарителя с...
Устройство для непрерывного гальванического осаждения металла
Номер патента: 712
Опубликовано: 30.06.1995
Автор: Левадный Валентин Александрович
МПК: C25D 19/00
Метки: осаждения, металла, непрерывного, гальванического, устройство
Текст:
...стенке корпуса, осевым отводящим патрубком и патрубками для ввода и вывода гранул, расположенными в торцевой стенке корпуса между электродами.Устройство снабжено емкостью с подводящим и отводящим трубопроводами и арматурой для гидродинамического ввода гранул в ванну и съемными емкостями с трубопроводами и арматурой для гидродинамического вывода гранул из ванны.Устройство для непрерывного осаждения металла содержит корпус 1, в котором...
Раствор для химического осаждения покрытий никель-бор
Номер патента: 17
Опубликовано: 30.05.1994
Авторы: Морозов А. П., Цыбульская Л. С., Семененко Е. А., Гаевская Т. В., Гомза Т. В., Богдашич Т. В., Власенко В. Н.
МПК: C23C 18/34
Метки: раствор, химического, никель-бор, покрытий, осаждения
Текст:
...покрытий никель-бор осуществляется на медные проводники часо вых печатных плат при рабочей температурераствора 82 12 С. Процесс начинается самопроизвольно без предварительного контактирования изделий с более электроотрицательным металлом. Время осаждения составляет 1 ч, плотность загрузки не превышает 1,0 дм г/л. Предваритель ная обработка поверхности меди включает 72-3 мин. После каждой операции проводит ся тщательная промывка в...
Электролит для осаждения сплава никель-бор
Номер патента: 30
Опубликовано: 30.05.1994
Авторы: Новоторцева И. Г., Цыбульская Л. С., Гаевская Т. В., Морозов А. П., Чернова Т. А., Островская Д. Г., Богдашич Т. В.
МПК: C25D 3/56
Метки: никель-бор, электролит, осаждения, сплава
Текст:
...белый порошок, хорошо растворимый в воде.Декагидродекаборат натрия выпускается промышленностью (ТУ 6-02-1-513-86) в виде 2530 ведшего раствора.14-бутиидиол также выпускается прмышленностью (ТУ 6-45-52-79) в виде 25-30 водного раствора. Известен как блескообразующая добавка электрошттов никелироватшя.Состав готовят растворением в дистиллированной Воде при теьшературе 7 О-80 С борной кислоты. К полученному раствору добавляют...