C25D 3/38 — меди
Способ фотоселективного электрохимического осаждения меди на поверхность кремниевой пластины p-типа проводимости
Номер патента: 17444
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Иванова Юлия Александровна, Иванов Дмитрий Константинович, Стрельцов Евгений Анатольевич, Кулак Анатолий Иосифович
МПК: C25D 7/12, H01L 21/18, C25D 3/38...
Метки: фотоселективного, осаждения, проводимости, пластины, p-типа, электрохимического, меди, поверхность, способ, кремниевой
Текст:
...поддержания потенциала кремниевого электрода и для устойчивого поддержанияэлектролита, а увеличение содержания 33 более 0,7 моль/л ограничено растворимостью данного соединения в воде. Влияние концентрации компонентов и потенциалов на селективность процесса осаждения меди сопоставлено в таблице. Зависимость величины фототока, темнового тока осаждения меди на -кремний и степени селективности(отношение массы меди, осаждающейся под...
Раствор для катодного электрохимического осаждения на поверхность меди медьсодержащих окрашенных защитно-декоративных покрытий
Номер патента: 7637
Опубликовано: 30.12.2005
Авторы: Врублевская Ольга Николаевна, Воробьева Татьяна Николаевна, Рева Ольга Владимировна
МПК: C25D 3/38
Метки: осаждения, поверхность, медьсодержащих, меди, катодного, защитно-декоративных, окрашенных, раствор, электрохимического, покрытий
Текст:
...г/л меди сульфат 45 натрия гидроксид 30 сахароза 60 натрия хлорид 5 калия пирофосфат 30 вода до 1 л. Электроосаждение проводят при комнатной температуре в течение 10 мин при плотности тока 0,01 А/дм 2. Деталь промывают холодной проточной водой и сушат обдувом теплым воздухом. Получают медьсодержащее покрытие золотистого цвета свойства приведены в таблице 1 - качество покрытий и стабильность раствора удовлетворительны. Пример 4 Медную...
Электролит для гальванического осаждения медного покрытия
Номер патента: 3459
Опубликовано: 30.09.2000
Авторы: Капица Марина Сергеевна, Жарский Иван Михайлович, Иванова Наталья Петровна, Дроздов Павел Геннадьевич
МПК: C25D 3/38
Метки: электролит, гальванического, медного, осаждения, покрытия
Текст:
...ионов. Данная композиция приводит к значительному катодному ингибированию процессов электрокристаллизации меди, приводящих не только к измельчению зерна, но и изменению направления роста граней кристаллов, вызывая их строго упорядоченную ориентацию. Все эти факторы влияют на значительное уменьшение шероховатостей (до 0,084-0,073 мкм) покрытий и получению практически беспористых медных осадков с достаточно высоким (до 95 ) выравниванием при...