Сидерко Александр Александрович
Способ химического осаждения из газовой фазы пленок вольфрама
Номер патента: 15149
Опубликовано: 30.12.2011
Авторы: Наливайко Олег Юрьевич, Каленик Вера Ивановна, Сидерко Александр Александрович, Солодуха Виталий Александрович, Турцевич Аркадий Степанович
МПК: C23C 16/14, H01L 21/285
Метки: способ, газовой, вольфрама, пленок, осаждения, химического, фазы
Текст:
...от 360 до 475 С и давлении от 4 до 60 мм рт.ст., с подачей или без подачи азота, прекращение подачи моносилана и гексафторида вольфрама, создание в реакторе давления для осаждения основного слоя и осаждение основного слоя вольфрама восстановлением гексафторида вольфрама водородом при температуре от 360 до 475 С и давлении от 70 до 90 мм рт.ст. перед осаждением зародышевого слоя проводят выдержку пластины в среде моносилана с потоком от...
Устройство подачи паров жидкого вещества в реактор установки химического осаждения из газовой фазы
Номер патента: 11859
Опубликовано: 30.04.2009
Авторы: Пшеничный Евгений Николаевич, Наливайко Олег Юрьевич, Плебанович Владимир Иванович, Сидерко Александр Александрович
МПК: F24H 9/02, B01F 03/04, G05D 23/00...
Метки: фазы, вещества, химического, жидкого, установки, реактор, осаждения, устройство, подачи, паров, газовой
Текст:
...использование резервуара меньшей емкости (например, 5 литров или менее). Использование обогреваемого трубопровода для подачи паров жидкого вещества в реактор технологической установки позволяет исключить конденсацию паров и засорение трубопровода. Для исключения конденсации паров внутри трубопровода необходимо обеспечить нагрев трубопровода до температуры на 2-5 С выше температуры паров жидкого вещества. Использование измерителя потока паров...
Способ получения пленки борофосфоросиликатного стекла
Номер патента: 4154
Опубликовано: 30.12.2001
Авторы: Сидерко Александр Александрович, Пшеничный Евгений Николаевич, Смагин Дмитрий Леонидович, Емельянов Виктор Андреевич, Наливайко Олег Юрьевич
МПК: H01L 21/316
Метки: способ, борофосфоросиликатного, пленки, получения, стекла
Текст:
...При температуре испарителя с ТЭОС выше 70 С повышаются расход ТЭОС и неоднородность толщины пленок. При температуре испарителя с ДМФ ниже 20 С не обеспечивается необходимая концентрация фосфора в пленке из-за резкого снижения парциального давления ДМФ. При температуре испарителя с ДМФ выше 35 С в реактор подается избыточное количество паров ДМФ и суммарная концентрация бора и фосфора превышает 10 вес. , кроме того, повышается...