Патенты с меткой «вакууме»

Номер патента: 18351

Опубликовано: 30.06.2014

Авторы: Суворов Анатолий Николаевич, Саевич Леонтий Михайлович, Андреев Михаил Анатольевич

МПК: C23C 14/00, C23C 14/50

Метки: конденсацией, плоские, устройство, нанесения, подложки, вакууме, покрытий, вещества

Текст:

...планшет для обрабатываемой подложки, удерживаемый горизонтально благодаря контакту с наклонной направляющей, а также соединенный с указанными передачами и управляемый микропроцессором системы управления шаговый двигатель, выполненный с возможностью последовательного вывода всех планшетов, общим числом более двух, из указанного зацепления посредством управляемого натяжения указанных цепей для поочередного перевода планшетов вместе с...

Номер патента: 17960

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна, Чернов Анатолий Сергеевич

МПК: C23C 8/00, C23C 14/48, C23C 14/36...

Метки: тлеющем, поверхности, обработки, вакууме, изделий, разряде, способ

Текст:

...14 посредством приводного механизма 15,например винт-гайка от привода 13. На противоположной стороне внизу вакуумной камеры 3 расположен катод 5 на диэлектрической прокладке 6 с возможностью перемещения с помощью устройства 17 перемещения катода 5 по направляющим 18 посредством приводного механизма 19, например винт-гайка от привода 20. На катоде 5 выкладываются изделия 9, на которых необходимо произвести обработку поверхности....

Номер патента: 17923

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Чернов Анатолий Сергеевич, Терешко Ирина Васильевна, Редько Всеволод Петрович, Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/38, C23C 8/00, C23C 14/48...

Метки: поверхности, тлеющем, способ, устройство, обработки, изделий, разряде, вакууме, осуществления

Текст:

...агрегат, вакуумную камеру с катодом и анодом, подключенными к источнику напряжения,согласно изобретению, содержит маски из диэлектрических материалов, установленные над изделиями и выполненные с возможностью отвода излучения от поверхностей, не требующих обработки, и концентрации на поверхностях, требующих более интенсивной обработки. Над изделиями установлены фокусаторы из диэлектрических материалов, выполненные с возможностью увеличения...

Номер патента: 17632

Опубликовано: 30.10.2013

Авторы: Макаревич Евгений Петрович, Андреев Михаил Анатольевич, Суворов Анатолий Николаевич

МПК: C23C 14/48

Метки: покрытия, ионной, бомбардировкой, устройство, конденсацией, вещества, вакууме, нанесения

Текст:

...слоя на начальной стадии процесса нанесения покрытий в значительной мере определяет свойства и структуру покрытий в целом. Задачей изобретения является улучшение качества получаемых покрытий. Поставленная задача решается за счет того, что в устройстве для нанесения покрытия конденсацией вещества в вакууме с ионной бомбардировкой, содержащем являющуюся анодной вакуумную камеру, в которой расположены электродуговой испаритель,...

Номер патента: U 9424

Опубликовано: 30.08.2013

Авторы: Андреев Михаил Анатольевич, Суворов Анатолий Николаевич, Саевич Леонтий Михайлович

МПК: C23C 14/00

Метки: конденсацией, подложки, покрытий, вакууме, вещества, формирования, плоские, устройство

Текст:

...количеством планшетов и выбранным кодом Кодовое управление заключается в том, что соосно со звездочкой ведущей цепной передачи и шаговым двигателем крепится кодовый диск, представляющий собой диск из тонколистового материала с прорезанными в нем сегментными отверстиями в соответствии с количеством планшетов и выбранным кодом (в данном случае код Грэя). Вращение оси с диском осуществляется шаговым двигателем при подаче на него импульсов с...

Номер патента: 17194

Опубликовано: 30.06.2013

Авторы: Ковалевская Анна Викторовна, Григорьев Сергей Владимирович, Ковалевский Виктор Николаевич, Сачава Дмитрий Григорьевич, Жук Андрей Евгеньевич

МПК: C23C 14/00

Метки: частицах, вакууме, порошков, покрытий, получения, устройство

Текст:

...катоды, а на расстоянии от 120 до 150 мм от распыляемого катода расположен барабан с лопатками для перемешивания микропорошка и загрузочным окном, при этом на рабочие поверхности барабана и лопаток нанесено керамическое нанопокрытие, а профиль лопаток выполнен по эвольвенте, за исходную кривую которой принята окружность, соответствующая диаметру загрузочного окна барабана,2 17194 1 2013.06.30 кроме того, на загрузочном окне барабана может...

Номер патента: 16595

Опубликовано: 30.12.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/36, C23C 14/48, C23C 8/00...

Метки: вакууме, способ, изделия, обработки

Текст:

...камеру 3 и располагают на катоде 5, установленном на диэлектрической прокладке 6 таким образом, чтобы поверхность, которую необходимо обрабатывать, была обращена к аноду 1. Закрывают вакуумную камеру 3. Включают откачной пост 10 для откачки воздуха из вакуумной камеры 3. После создания достаточного разрежения в вакуумной камере 3 включают агрегат форвакуумный 11 для создания разрежения 1,3-13,3 Па, создают между катодом 5 и анодом 1,...

Номер патента: 16593

Опубликовано: 30.12.2012

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 8/00, C23C 14/48, C23C 14/36...

Метки: обработки, изделия, вакууме, способ

Текст:

...потенциала энергия ионов, исходящих из анода и находящихся в пространстве между анодом и катодом, увеличивается. Подвергая изделия в процессе обработки воздействию импульсов тока, подаваемых с частотой, близкой к собственной резонансной частоте атомов кристаллической решетки материала изделий, можно значительно повысить энергетический потенциал атомов кристаллической решетки материала для повышения параметров качества поверхностного слоя...

Номер патента: U 8621

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Саевич Леонтий Михайлович, Андреев Михаил Анатольевич, Суворов Анатолий Николаевич

МПК: C23C 14/00

Метки: покрытий, вещества, нанесения, устройство, вакууме, конденсацией, плоские, подложки

Текст:

...и более планшетами с плоскими подложками. На рисунке представлена схема предлагаемого устройства. Устройство содержит корпус-вакуумную камеру 1, электрод токопроводящий из испаряемого металла 2, вращающийся стол 3. На столе 3 установлен корпус 4 оснастки. Корпус 4 расположен по отношению к электроду токопроводящему из испаряемого металла 2 таким образом, что ось электрода токопроводящего из испаряемого металла 2 перпендикулярна плоскости...

Номер патента: 16343

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/35, C23C 14/38, C23C 14/48...

Метки: обработки, изделия, устройство, осуществления, вакууме, поверхностной, способ

Текст:

...согласно изобретению, содержит источник высокочастотного пульсирующего тока, подключенный к изделию и содержащий регулятор частоты и регулятор тока и протяженный магнетрон, расположенный в вакуумной камере, с мишенью, выполненной с возможностью перемещения, смены, установки комбинированной мишени. Известно, что при высокочастотном изменении подаваемого постоянного тока происходит возрастание энергетического уровня материала. Кроме того, в...

Номер патента: 16341

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/36, C23C 8/00, C23C 14/48...

Метки: осуществления, устройство, вакууме, обработки, способ, изделия

Текст:

...в пространстве между анодом и катодом, увеличивается. Подвергая изделие воздействию импульсного тока, в процессе обработки можно значительно повысить энергетический потенциал атомов кристаллической решетки материала для повышения износостойкости изделия, тем самым создать условия для проведения структурных изменений в приповерхностных слоях материала изделия ионами с меньшей кинетической энергией, повысить производительность, снизить...

Номер патента: 16337

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/48, C23C 8/00, C23C 14/38...

Метки: обработки, способ, вакууме, осуществления, устройство, изделия

Текст:

...источник высокочастотного импульсного тока,подключенный к двум расположенным в вакуумной камере электродам и содержащий регулятор частоты и регулятор тока и систему напуска технологических газов с устройством контроля объема напуска газа. Один электрод выполнен из титана, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен из циркония, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен из тантала, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен...

Номер патента: 16244

Опубликовано: 30.08.2012

Авторы: Рогачев Александр Владимирович, Пилипцов Дмитрий Геннадьевич, Федосенко Николай Николаевич

МПК: C23C 16/26, C23C 14/06, C23C 14/24...

Метки: способ, углеродного, вакууме, покрытия, формирования

Текст:

...следующем. Способ формирования углеродных пленок из плазмы сильноточного импульсного катодно-дугового разряда сложной формы основан на эффекте эрозии катода из графита при действии импульсного катодно-дугового разряда в вакууме, формировании направленного к подложке потока плазмы и конденсации ее на подложку. Изменение амплитуды напряжения импульса и его длительности позволяет регулировать величину среднего тока разряда, который в свою...

Номер патента: U 8230

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Андреев Михаил Анатольевич, Суворов Анатолий Николаевич, Макаревич Евгений Петрович

МПК: C23C 13/00

Метки: вещества, нанесения, бомбардировкой, ионной, покрытий, вакууме, конденсацией, устройство

Текст:

...и может достигать десятков процентов. Капли металла, конденсируясь на обрабатываемое изделие, имеют низкую прочность сцепления, т.к. их скорость невелика, а диффузионные процессы недостаточно эффективны. Вместе с тем формирование слоя на начальной стадии процесса нанесения покрытий в значительной мере определяет свойства и структуру покрытий в целом. Задачей полезной модели является улучшение качества получаемых покрытий. 2 82302012.06.30...

Номер патента: 13233

Опубликовано: 30.06.2010

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/06

Метки: черного, цвета, декоративного, покрытия, получения, вакууме, способ

Текст:

...к предлагаемому техническому решению по технической сущности способ получения декоративных покрытий в вакууме, включающий плазменное(ионами материала катода электродугового источника) нанесение тонких алмазоподобных пленок с подслоями титана 11. Основным недостатком этого способа является то, что он не обеспечивает достаточно низкое интегральное отражение в видимой области спектра и не позволяет получить черную окраску покрытия, реализуя...

Номер патента: U 5478

Опубликовано: 30.08.2009

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/48, H01J 3/00

Метки: покрытий, вакууме, нанесения, устройство

Текст:

...камере. Магнитное поле в системе создается катушками, размещенными снаружи плазмовода. На криволинейный участок плазмовода подается положительный потенциал порядка 5-20 В. Электрическое поле совместно с магнитным создает плазмооптическую систему, в которой поворот ионного потока осуществляется при напряженности магнитного поля более чем в три раза меньшей, чем требуется для поворота только тороидальным магнитным полем 8, 9. Таким образом,...

Номер патента: 11927

Опубликовано: 30.06.2009

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/32

Метки: нанесения, устройство, вакууме, покрытий

Текст:

...дугу зажигают с помощью устройства возбуждения разряда, например поджигающего электрода 6, переключение токоподвода к одному из концов катода 1 осуществляют с помощью коммутатора 7. Питание дуги осуществляют от источника 8. Потенциал на подложкодержателях 2 и 4 регулируют раздельно с помощью источников 9 и 10. Устройство работает следующим образом. К катоду 1, который представляет собой пространственную спираль и выполнен из...

Номер патента: U 4568

Опубликовано: 30.08.2008

Авторы: Саевич Леонтий Михайлович, Суворов Александр Анатольевич, Рыжкова Юлия Александровна, Андреев Михаил Анатольевич, Суворов Анатолий Николаевич

МПК: C23C 14/00

Метки: покрытий, нанесения, вакууме, устройство

Текст:

...фиксаторы, расположенные на поверхности переднего диска, копир, расположенный на передней опоре, рамки, снабженные подпружиненными защелками, барабан крепится к раме при помощи двух опор, на одной из которых расположены три неподвижных ролика вращение барабана осуществляют при помощи привода, соединенного с валом барабана, и снабженного предохранительным устройством кассета состоит из каркаса, направляющих и держателя с пружинами, в пазы...

Номер патента: 9418

Опубликовано: 30.06.2007

Авторы: Фигурин Кирилл Борисович, Григорьев Сергей Владимирович, Ковалевский Виктор Николаевич, Жук Андрей Евгеньевич

МПК: C23C 14/00

Метки: покрытий, устройство, получения, частицах, порошков, вакууме

Текст:

...и распыляемый катод, установленный внутри анода в одной плоскости с ним, дополнительный катод, выполненный перфорированным, при этом площадь сплошной части поверхности дополнительного катода соответствует площади распыляемого катода, содержит вращающийся барабан с перемешивающими лопатками для размещения порошка и трубчатым катодом, расположенным между распыляемым и дополнительным катодами, кроме того, распыляемый катод выполнен составным...

Номер патента: 8640

Опубликовано: 30.12.2006

Авторы: Синцов Сергей Иванович, Григорович Игорь Михайлович, Жоглик Игорь Николаевич

МПК: C23C 14/32, C23C 14/54, C23C 14/00...

Метки: покрытий, нанесения, вакууме, способ

Текст:

...потенциала смещения на изделие.Поставленная задача решается способом нанесения покрытий в вакууме, включающим предварительную подготовку поверхности обрабатываемых изделий, размещение изделий на приспособлении в вакуумной камере, очистку, нагрев и активацию поверхности изделия нейтральными или ионизированными частицами азота или аргона перед нанесением покрытия, приложение к приспособлению электрического смещения путем подачи положительных...

Номер патента: 8431

Опубликовано: 30.08.2006

Авторы: Синцов Сергей Иванович, Жоглик Игорь Николаевич, Григорович Игорь Михайлович

МПК: C23C 14/24

Метки: нанесения, покрытий, устройство, вакууме

Текст:

...происходит несимметричная нагрузка трансформатора в процессе вакуумно-дугового осаждения покрытия. Задачей предлагаемого изобретения является создание устройства для нанесения покрытий в вакууме, обеспечивающего получение покрытий повышенного качества на более широкий ряд материалов изделий (силумины, латунь, пластмассы) и позволяющего наиболее эффективно использовать мощность вакуумно-дугового разряда в процессе осаждения покрытий....

Номер патента: U 2469

Опубликовано: 28.02.2006

Авторы: Жоглик Игорь Николаевич, Андреев Михаил Анатольевич

МПК: C23C 14/24

Метки: нанесения, покрытий, устройство, вакууме

Текст:

...на трех шпильках 4 шайбы-изоляторы из фторопласта 5 с электродами поджига 6. Рабочая часть электродов поджига (напыленная керамическая соломка) контактирует с испаряемым катодом в конце,противоположном токоподводу. К этому уровню от шайб изоляторов на трех шпильках 7 крепятся экраны из нержавеющей стали 8, которые предохраняют керамические термоизоляторы 9 с электродами поджига 6 от запыления. Эти экраны также выполняют функции дополнительного...

Номер патента: 6136

Опубликовано: 30.06.2004

Авторы: Иващенко Сергей Анатольевич, Фролов Игорь Станиславович, Макаревич Евгений Владимирович, Плахотнюк Василий Иванович

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, нанесения, устройство, покрытий

Текст:

...15, установленный на одном валу с ведущей шестерней 13 поворотного держателя, и ведомый диск 16 кулачка 17,обеспечивающего периодическое возвратно-поступательное перемещение вала 7 поворотного держателя с пакетом дисков 8 относительно обрабатываемых изделий 3. Силовое замыкание кулачка 17 с валом 7 создается пружиной 18. Время одного оборота вала кулачка 17 фиксируется датчиком 19. Для электрической изоляции пакета дисков 8 вал 7 поворотного...

Номер патента: U 1246

Опубликовано: 30.03.2004

Авторы: Жоглик Игорь Николаевич, Синцов Сергей Иванович, Григорович Игорь Михайлович

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, устройство, нанесения, покрытий

Текст:

...полезной модели является создание устройства для нанесения покрытий в вакууме, позволяющее осуществлять длительные непрерывные (20-40 ч) режимы нанесения покрытий со скоростью осаждения более 1 мкм/ч. Поставленная задача решается следующим образом в устройстве для нанесения покрытий в вакууме, содержащем корпус, соленоид, размещенный на корпусе, расходуемый металлический катод, установленный в корпусе эксцентрично относительно оси...

Номер патента: 2431

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Мазуркевич Александр Михайлович, Тарасова Валентина Николаевна, Лойко Владимир Алексеевич, Горев Александр Иванович, Карпенко Геннадий Дмитриевич

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, защитно-декоративных, покрытий, способ, получения

Текст:

...до температурь 1673 К. Затем отрицателвнъй потенциал уменьшали до 100310 н в рабочую камеру через отдельнъюсистемы подавали азот и ацетилен. Заданны состав смеси достигался ступенчатым напуском газов вначале подавали азот до давления (1,32,0)15 х 03 Па (при этом на поверхности из делия появлялся плотный беспористый переходный спой), затем подавали ацетилен до давления (26-6,5)10 зПаи вновь азот до давления (9,1-10,5содержание...

Номер патента: 2509

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Береснев Александр Николаевич, Фигурин Борис Леонидович, Фигурин Кирилл Борисович, Вершина Алексей Константинович

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, пленок, способ, магнитных, получения

Текст:

...субструктуры кристаллов вызывает появление магнитного момента (разворота) 2509 1 кристаллов в направлении легкого намагничивания. Оптимизация ориентирующего магнитного воздействия по отношению к процессу кристаллизации нейтрализует негативное влияние внутреннего трения и обеспечивает технический результат. Напыленный материал конденсируется на подложку в аморфном (некристаллическом) состоянии на требуемую толщину. По окончании процесса...

Номер патента: 1375

Опубликовано: 16.09.1996

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Ковалевский Виктор Николаевич, Фигурин Борис Леонидович, Фигурин Кирилл Борисович, Яковчик Н. М.

МПК: C23C 14/00, C23C 14/38

Метки: устройство, покрытий, вакууме, получения

Текст:

...деталей.Предлагаемое устройство описывается следующим образом (фиг. 1). Напыляемая подложка 1 расположена фронтально распыляемому катоду 2, вмонтированному в стенку камеры 3. Параллельно распыляемому катоду установлен дополнительный катод 5, питаемый от источника б.Предлагаемое устройство работает следующим образом. До окончания процесса предварительной обработки осуществляется процесс распнгления в скрещенных магнитном и...

Номер патента: 360

Опубликовано: 30.03.1995

Авторы: Обухов В. Е., Рубан Геннадий Иосифович, Точицкий Эдуард Иванович, Буравцев А. Т.

МПК: C23C 14/26

Метки: вакууме, устройство, нанесения, покрытий

Текст:

...каналов уменьшаются к периферии формирователя. Удлиненные стенки центральных КЗНЗЛОБ ОТКЛОНЯЮТ часть потока к периферии подложки. Повышение козффициента использования-материала покрытия обеспечивается за сиет 25 того, что каналы формирователя фонусируют поток пара в основном на подложку, а Не вне ее.КОГДЗ ОСИ КЗНЭПОВ направлены В зону подложкодержателя, расположеннуюзо на расстоянии ближе 0,63 от его цент ра, то перекрытие потоков пара...

Номер патента: 215

Опубликовано: 30.12.1994

Автор: Кремко Е. В.

МПК: C23C 14/34

Метки: изделиях, нитрида, керамики, покрытий, защитно-декоративных, вакууме, титана, стекла, способ, получения, металла

Текст:

...потребления. Изделия из металла - это ложки, вилки. ножи. турки и др. посуда. Изделия из стекла - это линзы. вазы. витражные стекла стаканы. фужеры. сервизы и др. посуда. Изделия из керамики это облицовочная плитка. серви зы из керамики и фарфора. вазы и др. посу-потребления, особенно важен фактор проч ности сцепления покрытия с основой. а затем цвет изделий как декоративная характеристика. данное изобретение решает эту проблему....

Номер патента: 313

Опубликовано: 30.12.1994

Авторы: Точицкий Э. И., Селифанов О. В., Станкевич Е. В.

МПК: C23C 15/00

Метки: плазменного, вакууме, нанесения, способ, покрытий

Текст:

...с 1 д согтавляет 10 10 секунд 10 10 микросекунд). а также для интенсивного смешивания плазменньж лото показано) ДЛЯ ПРЗКТИЧЕСКН ПОЛНОГО УСков и формирования направленного к подложкодержателю потока плазмы осаждаемого материала. АКроме того, высокоинерционные микрокапли плазменных потоков (в случае 5 использования эрозионной плазмы)при достижении поверхности, нагретой до темературы близкой к критической температуре конденсации используемого...