Точицкий Эдуард Иванович
Импульсный вакуумно-дуговой источник плазмы
Номер патента: 10555
Опубликовано: 30.04.2008
Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Точицкий Эдуард Иванович, Селифанов Олег Владимирович
МПК: C23C 14/24, H05H 1/24
Метки: вакуумно-дуговой, плазмы, импульсный, источник
Текст:
...в направлении какой-нибудь образующей вышеупомянутых конусно-сопряженных поверхностей. Более того, такое техническое решение обеспечивает частичное залечивание электроэрозионной выработки за счет осаждения в ней части плазмы основного импульсного вакуумно-дугового разряда. Выполнение схемы питания с возможностью обеспечения второго вспомогательного разряда между расходуемым электродом и кольцевым экраном, охватывающим боковую...
Способ создания голографической рабочей матрицы для копирования голограмм
Номер патента: 10069
Опубликовано: 30.12.2007
Авторы: Грицкевич Ростислав Николаевич, Обухов Вячеслав Евгеньевич, Точицкий Эдуард Иванович
МПК: G03H 1/26
Метки: матрицы, рабочей, голографической, копирования, голограмм, создания, способ
Текст:
...адгезии алмазоподобных углеродных покрытий к поверхности рабочих матриц путем ионной очистки поверхности рабочих матриц в едином вакуумном технологическом цикле, а также определения диапазона толщины алмазоподобных покрытий, при котором и ресурс рабочих матриц увеличивается, и обеспечивается повторение голографического рельефа без искажений. Для увеличения ресурса голографической рабочей матрицы алмазоподобные углеродные покрытия,...
Технологический импульсный вакуумно-дуговой плазменный ускоритель
Номер патента: 9264
Опубликовано: 30.06.2007
Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Точицкий Эдуард Иванович, Селифанов Сергей Олегович
МПК: H05H 1/48, H05H 1/24, C23C 14/24...
Метки: импульсный, вакуумно-дуговой, ускоритель, технологический, плазменный
Текст:
...Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков технологического импульсного вакуумно-дугового плазменного ускорителя, подтверждает новизну предлагаемого изобретения. Вышеуказанная форма выполнения внутренней поверхности кольцевого изолятора при имеющем место отсутствии заметных следов ее повреждения в процессе достаточно продолжительной эксплуатации ускорителя позволяет эффективно использовать...
Механо-компьютерный комплекс для диагностики патологии стоп
Номер патента: U 3374
Опубликовано: 28.02.2007
Авторы: Татур Вадим Георгиевич, Максименко Алексей Дмитриевич, Лашковский Владимир Владимирович, Сычевский Леонид Збигневич, Мармыш Андрей Геннадьевич, Кочергин Виктор Владимирович, Сергеенко Сергей Егорович, Свириденок Анатолий Иванович, Игнатовский Михаил Иванович, Аносов Виктор Сергеевич, Точицкий Эдуард Иванович, Болтрукевич Станислав Иванович
МПК: A61F 5/00
Метки: механо-компьютерный, диагностики, комплекс, патологии, стоп
Текст:
...тем, что в заявляемый механо-компьютерный комплекс для диагностики патологии стоп состоит из системы тензопреобразователей в виде измерительных стелек для стандартной обуви для правой И левой стоп с распределенными по поверхности ячейками с тензодатчиками давления, расположенными в тензосенсорнь 1 х ячейках в тензопередаточной среде, блока обработки и хранения данных, состоящего из модуля преобразования и первичной обработки информации,...
Способ получения резистивного слоя
Номер патента: 5013
Опубликовано: 30.03.2003
Авторы: Свирин Василий Тимофеевич, Точицкий Эдуард Иванович, Чекан Николай Михайлович
МПК: H01C 17/04
Метки: резистивного, способ, слоя, получения
Текст:
...и ТКС полупроводников от температуры небольшие изменения вприводят к значительному изменению этих параметров. В то же время механические,химические и иные характеристики пленки и скин-слоя практически совпадают граница пленки и скин-слоя обладает минимальной свободной энергией, обеспечивая тем самым стабильность функционирования такой системы в качестве высокоомного резистора и ус 2 5013 1 тойчивость ее к старению. При типичных...
Способ получения пленок металлооксидных высокотемпературных сверхпроводников
Номер патента: 358
Опубликовано: 30.03.1995
Авторы: Свиридович Олег Григорьевич, Рубан Геннадий Иосифович, Точицкий Эдуард Иванович
МПК: C23C 14/28
Метки: пленок, получения, высокотемпературных, способ, металлооксидных, сверхпроводников
Текст:
...на атомах вподложке. я двухступенчатый напуск кислорода впленки необходимдля обеспечения 1) фа- .зового перехода тетрагональной структуры в орторомбическую и 2) насыщения этой фазы кислородом до оптимальной величины т с определеннымсодержанием и упорядочением -в кислородной подсистеме- ортором бической фазы. При давлении-г кислородаболее 133 па и менее 40 Па на первом этапепленки при этому наблюдается также нео днородность состава пленки...
Устройство для нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 360
Опубликовано: 30.03.1995
Авторы: Обухов В. Е., Точицкий Эдуард Иванович, Рубан Геннадий Иосифович, Буравцев А. Т.
МПК: C23C 14/26
Метки: нанесения, устройство, покрытий, вакууме
Текст:
...каналов уменьшаются к периферии формирователя. Удлиненные стенки центральных КЗНЗЛОБ ОТКЛОНЯЮТ часть потока к периферии подложки. Повышение козффициента использования-материала покрытия обеспечивается за сиет 25 того, что каналы формирователя фонусируют поток пара в основном на подложку, а Не вне ее.КОГДЗ ОСИ КЗНЭПОВ направлены В зону подложкодержателя, расположеннуюзо на расстоянии ближе 0,63 от его цент ра, то перекрытие потоков пара...
Устройство для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы
Номер патента: 311
Опубликовано: 30.12.1994
Авторы: Точицкий Эдуард Иванович, Перекатов Юрий Алексеевич, Селифанов Олег Владимирович, Зеленковский Эдуард Михайлович
МПК: H05H 1/34, C23C 14/00
Метки: возбуждения, электроэрозионной, импульсном, плазмы, разряда, генераторе, устройство
Текст:
...с дер-50 жателем 8 изолятора 3 и прижим изолятора 3 к боковой поверхности катода 1 вблизи его рабочего торца 2 с образованием локального контакта 7 тонкопленочного токопровода 5 с ка- 55 тодом 1, при этом изолятор 3 расположен эксцентрично относительно катода 1, а ось подвижного кольца 14 подшипника 12 отклонена на угол ыот оси его неподвижного кольца 13,совпадающей с осью цилиндрического катода 1 генератора.Величина угла Ы. определяется...
Устройство для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы
Номер патента: 314
Опубликовано: 30.12.1994
Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Перекатов Юрий Алексеевич, Точицкий Эдуард Иванович, Зеленковский Эдуард Михайлович
Метки: разряда, возбуждения, плазмы, генераторе, импульсном, электроэрозионной, устройство
Текст:
...приводУСТРОЙСТВО для возбуждения разряда вимпульсном генераторе электроэрозионной плазмы работает следующим образом. Приводят во вращение цилиндрическую втулку 10, кинематически связанную судержателем 8 изолятора 2 посредством пру жинящегоалемента 7. пружины Эироликов . д 11. Поскольку изолятор 2 установлен экс- 1центрично относительно катода 3 генерато ра.а следовательно. .и относительно оси цилиндрической втулки 10. расположенной ...
Вакуумное электроразрядное устройство
Номер патента: 312
Опубликовано: 30.12.1994
Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Иванов Юрий Михайлович, Свирин В. Т., Точицкий Эдуард Иванович
Метки: электроразрядное, устройство, вакуумное
Текст:
...и плазмооб матора 17 присоединен к катоду 3 разующнм катодом 3 электроразрядной элентроразрядной системы 1, второй системы 1. Наличие в ней плазмы и к первой обкладке конденсатора 16 высоковольтного импульса напряжения И к первому выводу дросселя 15, вто 5 обеспечивает пробой указанного промерой вывод дросселя 15 подключен к шутка и появление катодного пятна отрицательному полюсу основного нсч на поверхности илазмообразующего каточника...