C23C 14/38 — с помощью тлеющего разряда постоянного тока

Номер патента: U 10193

Опубликовано: 30.08.2014

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Волченков Александр Владимирович, Логвина Екатерина Владимировна, Редько Всеволод Петрович, Терешко Ирина Васильевна

МПК: C23C 14/38

Метки: разряда, плазмы, излучения, интенсивности, тлеющего, устройство, контроля

Текст:

...а вокруг направляющих установлены фиксирующе-затеняющие упругие шторки. На внутренней стороне корпуса вне направляющих дополнительно установлены прижимы с возможностью быстрой установки и снятия по меньшей мере одного интерференционного фильтра. В процессе обработки изделий из металлов и сплавов в плазме тлеющего разряда для достижения оптимальных параметров плазмы и соответственно качества обработки необходимо контролировать степень...

Номер патента: U 9963

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна, Редько Всеволод Петрович, Волченков Александр Владимирович, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/38

Метки: контроля, электромагнитного, плазмы, излучения, разряда, тлеющего, устройство

Текст:

...корпус, который установлен снаружи вакуумной камеры около смотрового окна, при этом одна ось симметрии токопроводящего контура расположена в плоскости, параллельной плоскости смотрового окна, а вторая ось симметрии токопроводящего контура перпендикулярна ей. Дополнительно устройство снабжено по меньшей мере одним токопроводящим контуром, и токопроводящие контуры расположены с равным угловым шагом относительно оси симметрии...

Номер патента: 17923

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Чернов Анатолий Сергеевич, Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна, Редько Всеволод Петрович, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/38, C23C 14/48, C23C 8/00...

Метки: устройство, разряде, способ, осуществления, тлеющем, обработки, поверхности, изделий, вакууме

Текст:

...агрегат, вакуумную камеру с катодом и анодом, подключенными к источнику напряжения,согласно изобретению, содержит маски из диэлектрических материалов, установленные над изделиями и выполненные с возможностью отвода излучения от поверхностей, не требующих обработки, и концентрации на поверхностях, требующих более интенсивной обработки. Над изделиями установлены фокусаторы из диэлектрических материалов, выполненные с возможностью увеличения...

Номер патента: 16343

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/48, C23C 14/38, C23C 14/35...

Метки: способ, поверхностной, изделия, осуществления, устройство, обработки, вакууме

Текст:

...согласно изобретению, содержит источник высокочастотного пульсирующего тока, подключенный к изделию и содержащий регулятор частоты и регулятор тока и протяженный магнетрон, расположенный в вакуумной камере, с мишенью, выполненной с возможностью перемещения, смены, установки комбинированной мишени. Известно, что при высокочастотном изменении подаваемого постоянного тока происходит возрастание энергетического уровня материала. Кроме того, в...

Номер патента: 16337

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 8/00, C23C 14/38, C23C 14/48...

Метки: вакууме, способ, устройство, изделия, осуществления, обработки

Текст:

...источник высокочастотного импульсного тока,подключенный к двум расположенным в вакуумной камере электродам и содержащий регулятор частоты и регулятор тока и систему напуска технологических газов с устройством контроля объема напуска газа. Один электрод выполнен из титана, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен из циркония, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен из тантала, а второй - из вольфрама. Один электрод выполнен...

Номер патента: 16414

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович, Сазонов Игорь Сергеевич, Жолобов Александр Алексеевич

МПК: C23C 8/00, C23C 14/38

Метки: варианты, тормозной, упрочнения, системы, деталей, разряде, тлеющем, способ

Текст:

...к аноду между анодом и катодом, подключенными к источнику напряжения, осуществляют откачку воздуха из вакуумной камеры до разрежения 1,313,3 Па, создают между катодом и анодом, расположенными на расстоянии 300600 мм, напряжение 0,58 кВ и плотность тока 0,053 А/м 2,постепенно повышают напряжение между катодом и анодом до возбуждения самостоятельного тлеющего разряда, во время обработки детали тормозной системы непрерывно вращают в...

Номер патента: 15548

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Жолобов Александр Алексеевич, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/38, C23C 8/00

Метки: способ, изделия, упрочнения

Текст:

...действием катодного падения потенциала энергия ионов, исходящих из анода и образующихся в межкатодном пространстве, увеличивается. Подвергая изделие воздействию высокочастотного постоянного тока, в процессе обработки можно значительно повысить энергетический потенциал атомов кристаллической решетки материала упрочняемого изделия, тем самым создать условия для проведения структурных изменений в приповерхностных слоях материала упрочняемого...

Номер патента: 15569

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Жолобов Александр Алексеевич, Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/38, C23C 8/00

Метки: упрочнения, изделий, способ

Текст:

...из циркония, титана, ниобия, хрома и тантала, а упрочняемые изделия - из твердого сплава и стали, в вакуумную камеру осуществляют напуск азота и углеродсодержащих газов, используют анод, выполненный из вольфрама. Между анодом и катодом размещают дополнительно упрочняемые изделия из сверхтвердых материалов. Используют анод, выполненный из титана со вставками по периметру из вольфрама. Используют анод, выполненный сборным из титана,...

Номер патента: 15546

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 8/00, C23C 14/38

Метки: изделий, упрочнения, способ, поверхностного

Текст:

...в лабораторной практике используют тлеющий разряд для катодного распыления материалов 2. Причина катодного распыления заключается в том, что каждый положительный ион при соударении с катодом и изделиями передает свою энергию небольшой группе атомов катода и изделий. Это приводит к сильному местному повышению температуры, возникающему в отдельных микроскопических областях катода и изделий, которое и приводит к испарению компонентов, входящих в...

Номер патента: 15544

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 8/00, B06B 3/00, C23C 14/38...

Метки: способ, изделий, упрочнения, ультразвукового

Текст:

...металлов. Причина катодного распыления заключается в том,что каждый положительный ион при соударении с катодом и изделиями, контактирующими с катодом, передает свою энергию небольшой группе атомов катода и изделий, контактирующих с катодом. Кроме того, в тлеющем разряде поток ионов носит немоноэнергетический характер, не все ионы, исходящие из анода (электрода-излучателя) и расположенные в межкатодном пространстве, имеют энергию, достаточную...

Номер патента: 15395

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 8/00, C23C 14/38

Метки: способ, изделий, упрочнения

Текст:

...изменений в материале упрочняемого изделия. Поэтому, подвергая анод и катод воздействию высокочастотного постоянного тока, в процессе обработки можно значительно повысить начальную энергию заряженных частиц, исходящих из анода и катода, тем самым усилить действие эффекта Франка-Рида по выходу ионов из анода и электронов из катода. Далее под действием катодного падения потенциала энергия ионов и электронов увеличивается. Тем самым повышается...

Номер патента: 15276

Опубликовано: 30.12.2011

Авторы: Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/38, C23C 8/00

Метки: способ, поверхностного, или, сплава, металла, изделий, упрочнения

Текст:

...дефектов 3. При этом ионы материала анода, покидающие анод, внедряются в поверхностный слой упрочняемого изделия с образованием устойчивых связей с кристаллической решеткой материала изделия, изменяя структуру поверхностного слоя упрочняемого изделия особенно в местах с повышенной плотностью дефектов, что препятствует распаду мартенсита. Вследствие увеличения межатомных расстояний в кристаллической решетке и под действием катодного падения...

Номер патента: 1375

Опубликовано: 16.09.1996

Авторы: Яковчик Н. М., Вершина Алексей Константинович, Ковалевский Виктор Николаевич, Фигурин Кирилл Борисович, Фигурин Борис Леонидович

МПК: C23C 14/38, C23C 14/00

Метки: получения, устройство, вакууме, покрытий

Текст:

...деталей.Предлагаемое устройство описывается следующим образом (фиг. 1). Напыляемая подложка 1 расположена фронтально распыляемому катоду 2, вмонтированному в стенку камеры 3. Параллельно распыляемому катоду установлен дополнительный катод 5, питаемый от источника б.Предлагаемое устройство работает следующим образом. До окончания процесса предварительной обработки осуществляется процесс распнгления в скрещенных магнитном и...