Терешко Ирина Васильевна
Устройство для контроля интенсивности излучения плазмы тлеющего разряда
Номер патента: U 10193
Опубликовано: 30.08.2014
Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна, Волченков Александр Владимирович, Логвин Владимир Александрович, Редько Всеволод Петрович
МПК: C23C 14/38
Метки: тлеющего, плазмы, интенсивности, излучения, контроля, разряда, устройство
Текст:
...а вокруг направляющих установлены фиксирующе-затеняющие упругие шторки. На внутренней стороне корпуса вне направляющих дополнительно установлены прижимы с возможностью быстрой установки и снятия по меньшей мере одного интерференционного фильтра. В процессе обработки изделий из металлов и сплавов в плазме тлеющего разряда для достижения оптимальных параметров плазмы и соответственно качества обработки необходимо контролировать степень...
Устройство для контроля электромагнитного излучения плазмы тлеющего разряда
Номер патента: U 9963
Опубликовано: 28.02.2014
Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна, Редько Всеволод Петрович, Логвин Владимир Александрович, Волченков Александр Владимирович
МПК: C23C 14/38
Метки: устройство, контроля, разряда, излучения, плазмы, электромагнитного, тлеющего
Текст:
...корпус, который установлен снаружи вакуумной камеры около смотрового окна, при этом одна ось симметрии токопроводящего контура расположена в плоскости, параллельной плоскости смотрового окна, а вторая ось симметрии токопроводящего контура перпендикулярна ей. Дополнительно устройство снабжено по меньшей мере одним токопроводящим контуром, и токопроводящие контуры расположены с равным угловым шагом относительно оси симметрии...
Способ обработки поверхности изделий в вакууме в тлеющем разряде и устройство для его осуществления
Номер патента: 17923
Опубликовано: 28.02.2014
Авторы: Логвин Владимир Александрович, Чернов Анатолий Сергеевич, Логвина Екатерина Владимировна, Редько Всеволод Петрович, Терешко Ирина Васильевна
МПК: C23C 14/38, C23C 14/48, C23C 8/00...
Метки: поверхности, разряде, вакууме, изделий, обработки, устройство, тлеющем, осуществления, способ
Текст:
...агрегат, вакуумную камеру с катодом и анодом, подключенными к источнику напряжения,согласно изобретению, содержит маски из диэлектрических материалов, установленные над изделиями и выполненные с возможностью отвода излучения от поверхностей, не требующих обработки, и концентрации на поверхностях, требующих более интенсивной обработки. Над изделиями установлены фокусаторы из диэлектрических материалов, выполненные с возможностью увеличения...
Сканирующий емкостной преобразователь
Номер патента: U 9499
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Горчаков Тимур Анатольевич, Сергеев Сергей Сергеевич, Редько Всеволод Петрович, Терешко Валерий Михайлович, Терешко Ирина Васильевна, Хомченко Александр Васильевич
МПК: G01R 27/26
Метки: емкостной, сканирующий, преобразователь
Текст:
...металлические электроды выполнены дугообразными на диэлектрической подложке, а диэлектрический сосуд имеет возможность вертикального перемещения. Так как с электрическими параметрами диэлектриков, в частности такими, как тангенс угла диэлектрических потерь, электрическая емкость и электропроводность, обусловленная токами смещения, коррелируют различные физико-механические, химические, биологические, структурные и другие свойства жидких...