C23C 14/32 — с использованием взрыва; испарением и последовательной ионизацией паров

Номер патента: 18017

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: АНТЕ, Майкл, РАММ, Юрген, ВИДРИГ, Бено, ВОЛЬРАБ, Кристиан

МПК: C23C 14/32, C23C 14/08

Метки: кристаллов, слоистая, одним, мере, смешанных, меньшей, слоем, многокомпонентного, система, оксида

Текст:

...Для как можно более простого и воспроизводимого способа выгодно выбирать технологические параметры так, чтобы состав металлов слоя смешанных кристаллов после нормирования на полное содержание металлов в отношении соответствующих долей металла отличался от содержания металлов в мишени не более чем на 10, предпочтительно не более, чем на 5, в частности, не более, чем на 3 . Это удается достичь, например, удержанием указанных в экспериментальных...

Номер патента: 16565

Опубликовано: 30.12.2012

Авторы: РАММ, Юрген, ВОЛЬРАБ, Кристиан, ВИДРИГ, Бено

МПК: C23C 14/32

Метки: изолирующих, частности, способ, получения, слабоэлектропроводящих, слоев

Текст:

...Предположительно в предложенном способе возникает ход искры, контролируемый эмиссией электронов отравленной поверхности мишени. Поскольку поперечное ускорение радиального магнитного поля больше не вынуждает искру перемещаться по траектории, искра предпочтительно перескакивает в места мишени с наибольшей эмиссией электронов. В случае алюминиевой мишени, испаряемой посредством искры в кислороде, она движется к месту, где слой оксида алюминия...

Номер патента: U 7982

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Мурашова Ирина Викторовна, Соколов Юрий Валентинович, Хлебцевич Всеволод Алексеевич, Поболь Игорь Леонидович, Паршуто Александр Эрнестович

МПК: B23D 47/00, B23D 61/02, C23C 14/32...

Метки: дисковая, пила

Текст:

...или неравномерных нагрузок в процессе эксплуатации. Экспериментально установлено, что максимальная стойкость пилы достигается, еслисоставляет 2040 от значения , т.е. толщины коронки на режущей кромке. При 10 и менее, увеличение стойкости пилы не наблюдалось. Исследования поверхности пилы показали, что в процессе резания происходит вырыв твердосплавного покрытия,структура слоя после работы неоднородная и имеет ярко выраженную ребристую...

Номер патента: 14401

Опубликовано: 30.06.2011

Авторы: Емельянов Виктор Андреевич, Сенько Сергей Федорович, Вершина Алексей Константинович, Емельянов Антон Викторович

МПК: B23P 15/28, C23C 14/32

Метки: инструмент, износостойкого, режущий, нанесения, покрытия, способ

Текст:

...также снижает качество формируемого покрытия. Технической задачей предлагаемого изобретения является увеличение износостойкости инструмента путем повышения качества наносимого покрытия за счет обеспечения оптимальной температуры нагрева инструментов для формируемого покрытия. Поставленная задача решается тем, что в способе нанесения износостойкого покрытия на режущий инструмент, включающем размещение инструмента на держателе, очистку и...

Номер патента: U 7080

Опубликовано: 28.02.2011

Авторы: Шмурадко Валерий Трофимович, Овчинников Владимир Ильич

МПК: C23C 14/32, B23K 20/00

Метки: легирования, устройство, взрывом

Текст:

...хордой окружности, описывающей внутреннюю поверхность регулирующей опоры, причем величина хорды составляет 1/6-1/12 от длины окружности, а элементы опоры скреплены между собой попарно. На фиг. 4 показан контейнер, который имеет в продольном сечении две полости и форму, образуемую при вращении вокруг оси симметрии линии, описываемой уравнением кубической параболы 0,073 - 0,06226,16, ограниченной по высоте плоскостью на 0,3-0,5 от расстояния...

Номер патента: 13825

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/48, C23C 14/32

Метки: плазмы, незаряженных, устройство, испарителя, очистки, дугового, макрочастиц

Текст:

...наиболее сильно проявляется для плазмы легких металлов и связано с отклонением ионов в сторону увеличения напряженности магнитного поля в процессе дрейфа последних в осевом направлении криволинейного участка плазмовода. Технической задачей предлагаемого изобретения является повышение равномерности толщины покрытий, формируемых вакуумным электродуговым методом с устройством для очистки плазмы вакуумной дуги от макрочастиц. Поставленная...

Номер патента: 11927

Опубликовано: 30.06.2009

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/32

Метки: покрытий, нанесения, вакууме, устройство

Текст:

...дугу зажигают с помощью устройства возбуждения разряда, например поджигающего электрода 6, переключение токоподвода к одному из концов катода 1 осуществляют с помощью коммутатора 7. Питание дуги осуществляют от источника 8. Потенциал на подложкодержателях 2 и 4 регулируют раздельно с помощью источников 9 и 10. Устройство работает следующим образом. К катоду 1, который представляет собой пространственную спираль и выполнен из...

Номер патента: 11186

Опубликовано: 30.10.2008

Авторы: Свидунович Николай Александрович, Маковец Елена Аркадьевна, Латушкина Светлана Дмитриевна, Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Алексеевич

МПК: C23C 14/32

Метки: устройство, покрытия, плазменно-вакуумного, нанесения

Текст:

...перемещения относительно источника металлического пара и плазмы, в один из держателей подложкодержателя установлен имитатор изделия, выполненный из намагниченного материала с температурой фазового перехода второго рода, не превышающей оптимальной температуры конденсации покрытия, соосно которому неподвижно установлен управляющий элемент, выполненный в виде геркона и включенный в систему управления массо-амплитудно-временными...

Номер патента: 9539

Опубликовано: 30.08.2007

Авторы: Агеев Виталий Алексеевич, Плескачевский Игорь Юрьевич, Латушкина Светлана Дмитриевна, Вершина Алексей Константинович

МПК: C23C 14/32

Метки: устройство, плазмы, очистки, микрочастиц, дугового, испарителя

Текст:

...повышение степени очистки плазменного потока от микрочастиц при сохранении высокой степени прозрачности для ионной компоненты.Поставленная задача решается за счет того, что в устройстве для очистки плазмы дугового испарителя от макрочастиц, содержащем жалюзную систему электродов, вь 1 полненных в виде набора коаксиальных электродов конической формы, перекрываюших апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно...

Номер патента: 8640

Опубликовано: 30.12.2006

Авторы: Синцов Сергей Иванович, Жоглик Игорь Николаевич, Григорович Игорь Михайлович

МПК: C23C 14/32, C23C 14/00, C23C 14/54...

Метки: вакууме, нанесения, покрытий, способ

Текст:

...потенциала смещения на изделие.Поставленная задача решается способом нанесения покрытий в вакууме, включающим предварительную подготовку поверхности обрабатываемых изделий, размещение изделий на приспособлении в вакуумной камере, очистку, нагрев и активацию поверхности изделия нейтральными или ионизированными частицами азота или аргона перед нанесением покрытия, приложение к приспособлению электрического смещения путем подачи положительных...

Номер патента: 7694

Опубликовано: 28.02.2006

Авторы: Палий Олег Иванович, Сидорский Сергей Сергеевич, Попов Александр Николаевич, Казаченко Виктор Павлович, Рогачев Александр Александрович

МПК: C23C 14/32, B24D 3/34, C30B 29/04...

Метки: способ, покрытия, абразивного, получения

Текст:

...добавок используют карбидообразующие металлы, выбранные из группы титан, цирконий и хром, а высокотвердый вакуумный конденсат подвергают отжигу при температуре 850-900 С в течение 20-60 минут в защитной атмосфере или вакууме. При этом конденсат содержит, мас.легирующие добавки 22-40 углеродное алмазоподобпое вещество - остальное. Авторами экспериментально установлено, что при формировании на поверхности носителя высокотвердого...

Номер патента: 2433

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Буренков Виктор Васильевич, Лойко Владимир Алексеевич, Терехова Светлана Михайловна, Тарасова Валентина Николаевна, Костюкевич Эдуард Лукич, Карпенко Геннадий Дмитриевич

МПК: C23C 14/32

Метки: карбонитридных, покрытий, способ, получения

Текст:

...образу ется качественное карбонитридное покрытие с составом от ТСО, 2 Ыдядо Т 1 СО,ВЫд 9 без загрязнений и примесей свободного углерода. Таким образом, в предлагаемомспособе обеспечивается постоянная заданная концентрация паров углеводорода за счет поддержания постоянной температуры термостатированием не зависимая от дискретного характера подачи газа,а давление газа легко контролируется обычными средствами измерения вакуПри температуре свыпе...

Номер патента: 2431

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Тарасова Валентина Николаевна, Мазуркевич Александр Михайлович, Горев Александр Иванович, Карпенко Геннадий Дмитриевич, Лойко Владимир Алексеевич

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, получения, способ, защитно-декоративных, покрытий

Текст:

...до температурь 1673 К. Затем отрицателвнъй потенциал уменьшали до 100310 н в рабочую камеру через отдельнъюсистемы подавали азот и ацетилен. Заданны состав смеси достигался ступенчатым напуском газов вначале подавали азот до давления (1,32,0)15 х 03 Па (при этом на поверхности из делия появлялся плотный беспористый переходный спой), затем подавали ацетилен до давления (26-6,5)10 зПаи вновь азот до давления (9,1-10,5содержание...

Номер патента: 809

Опубликовано: 15.08.1995

Авторы: Точицкий Э. И., Селифанов О. В., Акулич В. В.

МПК: C23C 14/32, C30B 29/04, B24D 3/00...

Метки: прецизионной, материал, обработки, абразивный, поверхности

Текст:

...СОДВВШЭЩИЙ МНОГО водорода, материала, НИЗКОЙ ВЛЭЖНОСТЬЮ.НЭЛИЧИЭ препятствует ДОСТИЖВНИЮ ОЧЗНЬ ВЫСОКИХ ЗНЭЧЗНИЙ твердости, ХаракТЭРНЫХ ДЛЯ алмазов, И ЯБЛЯЭТСН ПРЫЧИНОЙ РЭЗЛОМОБ И ОТСЛОВНИН ПЛЕНОК.В источнике информации 4 описан абразивный материал в виде абразивной ленты, содержащей пластиковый носитель и тонкопленочный абразивный слои. Этот абразивный материал, твыбранный в обладает твердостью по Виккерсу более 500 иповерхностным...