Сякерский Валентин Степанович

Номер патента: 17506

Опубликовано: 30.08.2013

Авторы: Меледина Марина Владимировна, Сякерский Валентин Степанович, Сокол Виталий Александрович

МПК: H01L 21/288

Метки: пленке, паяемого, способ, получения, покрытия, тонкой, алюминия

Текст:

...контактным цинкованием. Сущность заявляемого способа получения паяемого покрытия на тонкой пленке алюминия толщиной 1 мкм и более заключается в следующем. Растворы и режимы обработки,предлагаемые в данном изобретении, разработаны с учетом максимально щадящего действия на тонкую алюминиевые пленку и в то же время рассчитаны на достижение эффективного результата. Оба раствора, как относительно слабый буферный раствор плавиковой кислоты в...

Номер патента: 17099

Опубликовано: 30.04.2013

Авторы: Сякерский Валентин Степанович, Ярошевич Ирина Викторовна, Шиманович Дмитрий Леонидович, Сокол Виталий Александрович

МПК: H01L 49/02, H01L 21/84, H01L 21/64...

Метки: многоуровневой, системы, анодных, алюминия, основе, межсоединений, способ, оксидов, микроэлектронных, изготовления

Текст:

...второго уровня фиг. 11 - тонкий адгезионный слой пористого оксида 23 на открытых участках алюминия второго уровня фиг. 12 - четвертая фоторезистивная маска по рисунку контактных площадок, сформированная поверх адгезионного пористого оксида 23 на фиг. 11 сквозная межэлементная изоляция второго уровня из пористого оксида алюминия 23 3 17099 1 2013.04.30 фиг. 13 - ионное травление поверхности образца до удаления ранее дополнительно...

Номер патента: 16100

Опубликовано: 30.08.2012

Авторы: Лукашова Надежда Васильевна, Сякерский Валентин Степанович, Сорока Сергей Александрович, Лемешевская Алла Михайловна

МПК: H01C 1/00, H01L 21/8238, H01C 7/00...

Метки: кмоп, полупроводникового, изготовления, резистора, высокоомного, интегральной, способ, схемы

Текст:

...слоя диэлектрика, которым формируют конфигурацию областей активных структур, включая резистор, поликремниевых затворов, областей стоков -типа,областей стоков -типа одновременно с низкоомными областями -типа резистора, высокоомного слоя -типа резистора ионным легированием бора по всей поверхности подложки проведение отжига при температуре 450-850 С формирование межслойного диэлектрика и металлических контактов к поликремниевым затворам,...

Номер патента: 15363

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Дрозд Сергей Евгеньевич, Сякерский Валентин Степанович, Листопадов Андрей Викторович, Белоус Виктор Анатольевич

МПК: H03K 19/0948

Метки: микросхема, интегральная

Текст:

...-типа и рабочими областями транзисторов логических блоков, обусловленной кратковременным несанкционированным повышением (всплеском) основного питающего напряженияили подачей высокого напряженияв процессе перезаписи информации в ячейки , расположенные на этом же кристалле микросхемы. На фиг. 1 представлена электрическая схема устройства выбора одного из двух возможных режимов работы микросхемы динамической памяти. На фиг. 2 представлена...

Номер патента: 14949

Опубликовано: 30.10.2011

Авторы: Сякерский Валентин Степанович, Сенько Сергей Федорович

МПК: H01L 21/302

Метки: ориентации, кремниевая, 111, структура, эпитаксиальная

Текст:

...скольжения дислокаций, формируемую такой фрактальной структурой, можно описать следующим образом. Вначале формируется сетка сдвоенных тетраэдров с основанием, совпадающим с первичным элементом рисунка, например треугольной ямкой. При первом разделении первичных элементов рисунка на элементы меньшего размера в объеме кремниевой пластины формируется новый уровень сетки дислокаций, представляющий собой также тетраэдры, но площадь их основания...

Номер патента: 13857

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Белоус Анатолий Иванович, Сенько Сергей Федорович, Сякерский Валентин Степанович

МПК: H01L 21/66, G01B 11/30, G01N 21/88...

Метки: получения, характеристик, поверхности, количественных, изделий, устройство, дефектов

Текст:

...содержащее точечный источник оптического излучения, держатель изделий и экран, содержит расположенную между источником излучения и держателем изделий координатную сетку, а также тем, что в качестве координатной сетки используют фотошаблон топологических структур полупроводниковых приборов. Сущность заявляемого технического решения заключается в формировании на контролируемой поверхности светотеневой координатной сетки, искажение...

Номер патента: 13856

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Сякерский Валентин Степанович, Белоус Анатолий Иванович, Сенько Сергей Федорович

МПК: H01L 21/66, G01B 11/30, G01N 21/88...

Метки: контроля, поверхности, изделий, способ, качества

Текст:

...в качестве координатной сетки. Формирование координатной сетки более дешевыми способами, например трафаретной печатью, как правило, повреждает поверхность полупроводниковых пластин. Поэтому их использование также ограничено. Таким образом, недостатки прототипа связаны с высокой трудоемкостью контроля,обусловленной как большим количеством технологических операций по приготовлению образцов для контроля, так и сложностью этих операций....

Номер патента: U 6405

Опубликовано: 30.08.2010

Авторы: Сякерский Валентин Степанович, Сенько Сергей Федорович

МПК: H01L 21/02

Метки: ориентации, кремниевая, структура, 111, эпитаксиальная

Текст:

...дальнейшем этапе оставляют неделимыми. Только в этом случае образуется фрактальная структура, состоящая из элементов различного размера. Одновременное вписывание элементов двух типов ямок и островков - приводит к тому, что конечная структура состоит из элементов одинакового минимального размера, элементы бльших размеров исчезают. Это приводит к резкому снижению глубины дислокационной структуры, ее локализации вблизи нерабочей поверхности...

Номер патента: U 5480

Опубликовано: 30.08.2009

Авторы: Белоус Анатолий Иванович, Сенько Сергей Федорович, Сякерский Валентин Степанович

МПК: G01B 11/30, G01N 21/88, H01L 21/66...

Метки: изделий, качества, контроля, устройство, поверхности

Текст:

...источник оптического излучения, держатель образцов и экран, дополнительно содержит расположенную между источником излучения и держателем образцов координатную сетку, а также тем, что в качестве координатной сетки используют фотошаблон топологических структур полупроводниковых приборов. Сущность заявляемого технического решения заключается в формировании на контролируемой поверхности светотеневой координатной сетки, искажение изображения...

Номер патента: 11992

Опубликовано: 30.06.2009

Авторы: Сякерский Валентин Степанович, Лемешевская Алла Михайловна, Леонов Николай Иванович, Шведов Сергей Васильевич, Емельянов Виктор Андреевич, Дудар Наталия Леонидовна

МПК: H01L 29/00

Метки: встроенным, моп-транзистор, каналом

Текст:

...обеспечивается постоянный ток стока в заданном диапазоне подаваемых на структуру транзистора обратных сток-истоковых напряжений. Сущность изобретения заключается в том, что в МОП-транзисторе области стока и истока отнесены на определенное расстояние (например, на 1 мкм) от границ затвора,причем длина встроенного канала превышает длину затвора, в результате чего ток стока 11992 1 2009.06.30 транзистора остается постоянным в заданном диапазоне...

Номер патента: 11811

Опубликовано: 30.04.2009

Авторы: Соловьев Ярослав Александрович, Баранов Валентин Владимирович, Сякерский Валентин Степанович, Глухманчук Владимир Владимирович

МПК: H01L 49/02, H01L 29/00

Метки: микросхемы, тонкопленочный, интегральной, кремниевой, интегральный, резистор

Текст:

...сплава с низкотемпературным оксидом кремния. Формирование между резистивным слоем и межуровневым слоем диэлектрика слоя пентаоксида тантала толщиной 0,07-0,40 мкм, площадью, по меньшей мере,равной занимаемой резистивной пленкой, позволяет исключить взаимодействие резистивной пленки с материалом подложки и тем самым повысить надежность и стабильность параметров ИТР при термических воздействиях. При толщине слоя пентаоксида тантала менее...

Номер патента: 11703

Опубликовано: 30.04.2009

Авторы: Лемешевская Алла Михайловна, Леонов Николай Иванович, Сякерский Валентин Степанович, Дударь Наталья Леонидовна, Емельянов Виктор Андреевич, Котов Владимир Семенович

МПК: H01C 1/00, H01L 29/00, H01C 7/00...

Метки: высокоомный, резистор, поликремниевый

Текст:

...снижается. Указанныепричины делают трудновыполнимой задачу получения резисторов с большим поверхностным сопротивлением с высокой точностью. В случае, когда ионное легирование тела поликремниевого резистора и его отжиг при сравнительно низкой температуре проводят после формирова 2 11703 1 2009.04.30 ния металлизации, возможно использование достаточно больших легкоконтролируемых доз легирующей примеси. За счет того, что ионное легирование тела...

Номер патента: 11502

Опубликовано: 28.02.2009

Авторы: Сенько Сергей Федорович, Сякерский Валентин Степанович, Белоус Анатолий Иванович

МПК: G01R 33/02

Метки: поля, визуальной, магнитного, способ, распределения, картины, напряженности, постоянного, получения

Текст:

...расчета муаровых картин в настоящее время развиты достаточно хорошо 7,8, а положение цветовых линий и пятен на экране кинескопа можно легко определить путем прямого измерения, что позволяет проводить не только качественный, но и количественный контроль. В связи с этим остановимся на факторах, которые необходимо учитывать при расчетах количественных характеристик магнитных полей. На основании анализа муаровой картины рассчитывается...