G03F — Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей

Номер патента: U 9792

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Васильев Алексей Андреевич, Агейченко Александр Степанович, Есьман Василий Михайлович

МПК: G03F 7/20, G02B 17/00

Метки: система, экспонирующая, проекционная

Текст:

...источник света 11 знака совмещения ретикла экспонирующим светом. Этот свет освещает дифракционный знак совмещения ретикла 14. Свет от кольцевого темнопрольного источника света 11, проходящий через ретикл, не попадает во входную апертуру проекционного объектива 3 и не проходит через проекционный объектив 3. Дифракционный знак совмещения ретикла представляет собой двухмерную дифракционную решетку, то есть двухмерную периодическую...

Номер патента: 17160

Опубликовано: 30.06.2013

Авторы: Есьман Василий Михайлович, Агейченко Александр Степанович

МПК: G03F 9/00, G03F 7/20

Метки: совмещения, оптическое, фотолитографии, установки, устройство

Текст:

...и профиль фильтра в разрезе. на фиг. 5 приведен сигнал оптической свертки изображения знака совмещения и его математического образа. Оптическое устройство совмещения для установки фотолитографии (фиг. 1) содержит координатный стол ретиклов (на фиг. 1 не показан) с ретиклом 1, содержащим знаки базирования 2, датчики базирования ретикла 3, проекционный объектив 5, датчик совмещения 4,стол пластин 11 с пластиной 8 и знаками совмещения 9,...

Номер патента: 16764

Опубликовано: 28.02.2013

Авторы: Юденков Виктор Степанович, Медведев Сергей Викторович, Барташевич Святослав Александрович

МПК: G03F 7/20

Метки: цифровых, форм, способ, фотополимерных, печатных, получения, флексографских

Текст:

...В известной цифровой технологии получения ФПФ для стабилизации эксплуатационных свойств используется операция дополнительного экспонирования, или финишинга,которая за счет поверхностной полимеризации внутренних поверхностей ФПФ несколько стабилизирует физико-механические свойства ФПФ и устраняет их остаточную липкость. Однако этот процесс не позволяет повысить физико-механические и эксплуатационные свойства за счет более полной...

Номер патента: 16195

Опубликовано: 30.08.2012

Автор: Агейченко Александр Степанович

МПК: G03F 7/20, G02B 27/18

Метки: проекционная, экспонирующая, система

Текст:

...источник света 8 с длиной волны экспонирования для освещения дифракционного знака совмещения 9, расположенного на координатном столе пластин 4,источник света 10 освещения знака совмещения пластины неэкспонирующим светом длиной волны 2 и источник света 11 освещения знака совмещения ретикла светом с длиной волны экспонирования, расположенные на темнопольном кольцевом осветителе 12. Темнопольный кольцевой осветитель 12 расположен в промежутке...

Номер патента: 15702

Опубликовано: 30.04.2012

Авторы: Есьман Василий Михайлович, Пушкин Леонид Владимирович, Аваков Сергей Мирзоевич

МПК: G02B 27/18, G03F 7/20, G02B 26/12...

Метки: лазерный, многоканальный, генератор, изображений

Текст:

...датчик углового положения луча 8,предназначенный для измерения пространственного положения луча источника излучения. Управляемое поворотное зеркало 7 по сигналам датчика углового положения луча 8 стабилизирует положение последнего в пространстве, устраняет колебания, обусловленные разогревом источника излучения и термическими деформациями узлов его крепления на генераторе изображений, что значительно снижает погрешности изготавливаемой...

Номер патента: 15101

Опубликовано: 30.12.2011

Авторы: Свиридов Дмитрий Вадимович, Соколов Валерий Георгиевич

МПК: G03F 7/16, C23C 18/36

Метки: металлических, способ, отражения, низким, получения, рисунков, коэффициентом

Текст:

...с последующим травлением в растворе, содержащем азотную кислоту, хлорид палладия,азотнокислый висмут и воду при следующем соотношении компонентов, мас.25-30 3 (конц.) 2 0,1-0,2(3)3 0,5-1,0 2 остальное. Указанная обработка обеспечивает как достижение низкого коэффициента отражения со стороны поверхности покрытия, так и увеличение глубины почернения обратного контакта за счет ингибирования процесса травления никелевого покрытия со стороны...

Номер патента: 14958

Опубликовано: 30.10.2011

Авторы: Могильный Владимир Васильевич, Станкевич Александр Ильич

МПК: G03C 1/73, G03F 7/004, C07C 69/54...

Метки: волны, сомономер, полимеров, получения, излучению, фоточувствительных, длиной, карбонилсодержащих

Текст:

...с такой скоростью, чтобы температура не поднималась выше 30 С. Смесь перемешивают еще 2 часа, затем гидролизуют 5 водным раствором соляной кислоты. Органический слой промывают водой, 5 водным раствором гидрокарбоната натрия, водой и сушат безводным сульфатом магния. Растворитель удаляют на ротационном испарителе в вакууме. В результате получают 20,1 г желтоватого твердого остатка. Сырец МЭГБФ кристаллизуют из смеси диэтиловый эфир -...

Номер патента: 14141

Опубликовано: 30.04.2011

Авторы: Пушкина Татьяна Владимировна, Есьман Василий Михайлович, Борисевич Виктория Стефановна, Корнелюк Александр Иванович

МПК: G03F 9/00, G01B 11/03

Метки: координатной, аттестации, литографии, способ, установки, системы

Текст:

...первой пластины на координатный стол, формирование на ней знаков аттестации без коррекции координатного стола, измерение координат сформированных знаков при поворотах пластины на множество углов,расчет функции коррекции с учетом измеренных координат и ввод рассчитанной функции коррекции в систему управления координатной системой установки. После этого на координатный стол устанавливают вторую пластину, формируют на ней знаки аттестации,...

Номер патента: 13885

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Кулешов Владимир Константинович, Есман Александр Константинович, Зыков Григорий Люцианович

МПК: H01L 31/00, G03F 7/00

Метки: элемент, тонкопленочный, электронный

Текст:

...активного слоя 2 прозрачной диэлектрической подложки 1 через нее и внутренний активный слой 3. Проводящие области выходные 4 электрически связаны как непосредственно, так и туннельно через наноразмерные зазоры 5 с проводящими приемными областями 6, фиг. 2. В конкретном исполнении прозрачная диэлектрическая подложка 1 - это тонкопленочный прозрачный материал, который выполнен, например, из полиэтилентерефталата (диэлектрического прозрачного...

Номер патента: 13637

Опубликовано: 30.10.2010

Авторы: Трофимова Александра Владимировна, Могильный Владимир Васильевич, Станкевич Александр Ильич

МПК: G03F 7/004, G03C 1/73

Метки: свете, поляризованном, полимерная, пленка, материал, получения, видимых, изображений, фоточувствительный

Текст:

...Реакцию полимеризации и выделение сополимера проводили аналогично описанному в примере 1. Выход сополимера 76-78 . Характеристическая вязкость в хлороформе 0,44 дл/г. Сополимер содержит 10,2 мол.МФФМ и 89,8 мол.БМА. Пример 3 Готовили смесь 1,98 г (0,009 моль) МФФМ, 7,34 г (0,051 моль) БМА, 0,065 г ДАК в 8 мл диоксана. Реакцию полимеризации и выделение сополимера проводили аналогично описанному в примере 1. Выход сополимера 75-77 ....

Номер патента: 13647

Опубликовано: 30.10.2010

Авторы: Соколов Валерий Георгиевич, Свиридов Дмитрий Вадимович

МПК: C23C 18/31, G03F 7/09, C25D 3/02...

Метки: способ, металлических, рисунков, получения

Текст:

...достигается тем, что при получении металлического рисунка в виде проводящих дорожек и других планарных элементов, включающем нанесение на подложку пленки аморфного гидратированного диоксида титана, соосажденного с солью палладия и щавелевой или гликолевой кислотой, экспонирование УФ-светом или электронным пучком,химическое никелирование, химическое или электрохимическое осаждение металла с низким электрическим сопротивлением, после...

Номер патента: 13530

Опубликовано: 30.08.2010

Авторы: Соколов Валерий Георгиевич, Свиридов Дмитрий Вадимович, Рухля Владимир Анатольевич

МПК: H05K 3/18, G03F 7/20

Метки: пленке, получения, рисунков, способ, металлических, полиимидной

Текст:

...олова, повторяющий рисунок фотошаблона 6. Химическое осаждение меди или никеля из известных растворов химического меднения или никелирования на восстановленных частицах катализатора химического осаждения - палладия в виде рисунка, повторяющего рисунок фотошаблона, до толщины слоя металла 0,1 мкм 7. Электрохимическое осаждение металла с низким электрическим сопротивлением,как правило меди, до требуемой толщины и более на поверхности...

Номер патента: 12788

Опубликовано: 28.02.2010

Авторы: Могильный Владимир Васильевич, Станкевич Александр Ильич

МПК: G03C 1/73, C07C 47/52, G03F 7/004...

Метки: получения, бензальдегидсодержащих, фоточувствительных, сомономер, полимеров

Текст:

...1110 (С-О сложноэфирной группировки). пектр ПМР, , м.д.1,08 (с, 3 Н, СН 3) 3,90 (с, 3 Н, СН 3 О) 4,84 и 5,36 (д, 2 Н, СН 2) 7,21. 7,53 и 7,58(н.к, 3 Н, С 6 Н 3) 9,96 (с, Н, СНО). Пример 2. Аналогичен примеру 1. Растворитель - диэтиловый эфир. Получено 14,3 г МФФМ,чистота 95,6 . Выход 62,2 . Пример 3. Аналогичен примеру 1. Растворитель - тетрагидрофуран. Получено 14,7 г МФФМ,чистота 96,1 . Выход 64,3 . Пример 4. Аналогичен примеру 2....

Номер патента: 12219

Опубликовано: 30.08.2009

Авторы: Агейченко Александр Степанович, Гуревич Элла Семеновна, Васильев Алексей Андреевич, Аваков Сергей Мирзоевич, Есьман Василий Михайлович

МПК: G03F 7/20, G02B 27/18

Метки: экспонирующая, проекционная, система

Текст:

...сторона которой является сферическим зеркалом 9 проекционного объектива 4. Объектив совмещения 12 состоит из склеенных линз 19 и 20, зеркала 21 и апертурной диафрагмы 22. Приемная ТВ камера 13 устройства совмещения подключена к управляющей плате, которая установлена на шине управляющего компьютера (на рисунке не показаны). Темнопольный кольцевой осветитель 14 для освещения знака совмещения пластины 11 неэкспонирующим светом длиной волны 1...

Номер патента: 11541

Опубликовано: 28.02.2009

Авторы: Медведева Анна Борисовна, Плебанович Владимир Иванович, Кисель Анатолий Михайлович, Бахматова Надежда Андреевна, Емельянов Виктор Андреевич

МПК: G03F 7/32

Метки: состав, позитивного, проявления, фоторезиста

Текст:

...бак установки приготовления растворов расчетный объем воды. 2.3. Взвесить расчетные массы гидроксида натрия, синтанола АЛМ-10, полиэтиленгликоля 4000 и высыпать в транспортную емкость. 2.4. Перемешать полученный состав. Оптимальные пределы концентраций основных компонентов заявляемого состава подтверждены примерами. Для приготовления заявляемого состава были взяты различные концентрации гидроксида натрия, синтанола АЛМ-10, полиэтиленгликоля...

Номер патента: 11492

Опубликовано: 30.12.2008

Авторы: Гаевская Татьяна Васильевна, Скорб Екатерина Владимировна, Соколов Валерий Георгиевич, Свиридов Дмитрий Вадимович

МПК: C25D 3/02, G03F 7/09, C23C 18/31...

Метки: рисунков, способ, металлических, получения

Текст:

...обеспечивающая удаление ионов палладия и диоксида титана с необлученных участков поверхности образца 4) химическое осаждение никеля из известных растворов никелирования, катализируемое фотовосстановленным палладием на облученных участках поверхности 5) химическое либо электрохимическое осаждение металла с низким электрическим сопротивлением (медь, серебро) на поверхности никелевого рисунка с использованием известных растворов металлизации....

Номер патента: 11179

Опубликовано: 30.10.2008

Авторы: Агейченко Александр Степанович, Зуев Владимир Павлович, Васильев Алексей Андреевич

МПК: H01L 21/02, G03F 7/20

Метки: фоторезистов, экспонирования, слоев, толстых, устройство

Текст:

...содержит широкополосный источник экспонирующего света, осветительную систему с апертурной диафрагмой, ретикл с топологическим рисунком, полихроматический проекционный объектив с апертурной диафрагмой, координатный стол для размещения экспонируемой пластины, а также первый и второй интерференционные фильтры, установленные в плоскости двух указанных апертурных диафрагм соответственно и выполненные с возможностью задания заранее...

Номер патента: 9243

Опубликовано: 30.04.2007

Авторы: Тихончук Георгий Иванович, Матюшков Владимир Егорович, Агейченко Александр Степанович

МПК: G02B 27/18, G03B 27/42, G03B 27/34...

Метки: проекционная, система, экспонирующая

Текст:

...резкого изображения объектива, а фотоприемник со щелевой диафрагмой выполнен с возможностью аттестации с его помощью датчика измерения масштаба проекционного объектива и положения плоскости его резкого изображения. Суть изобретения поясняется чертежами, где 3 9243 1 2007.04.30 на фиг. 1 изображена общая схема проекционной экспонирующей системы на фиг. 2 изображена общая схема дополнительного датчика определения плоскости резкого...

Номер патента: 8951

Опубликовано: 28.02.2007

Авторы: Мощеников Владимир Юрьевич, Гуревич Элла Семеновна, Агейченко Александр Степанович, Матюшков Владимир Егорович, Есьман Василий Михайлович

МПК: G01B 9/02, G03F 7/20

Метки: проекционная, система, экспонирующая

Текст:

...содержит источник света 16 для освещения знаков на пластине 11 неэкспонирующим светом с длиной волны М, второй источник света 17, расположенный с возможностью освещения знака совмещения на ретикле 3 светом с длиной волны 7 ь 2, причем 7 ь 2 7 ь 1, группы линз 18 и двояковогнутую линзу 9, одна сторона которой является сферическим зеркалом 9 проекционного объектива 4.Объектив совмещения 12, выполненный с величиной осевой хроматической...

Номер патента: 8800

Опубликовано: 30.12.2006

Авторы: Костко Олег Владимирович, Костко Владимир Семенович

МПК: G03F 7/32, G03C 5/58

Метки: подложку, нанесения, способ, изображения, рельефного, диэлектрическую

Текст:

...нанесение на нее последовательно слоя металла(хром), слоя полупроводника (дийодид олова), экспонирование через трафарет ультрафиолетовым или видимым светом и закрепление в водном растворе, отличающийся тем,что с целью одновременного создания твердого, коррозионностойкого металлического изображения, светочувствительной структуры и сокращения числа операций обработки на диэлектрическую поверхность наносят слой хрома толщиной 40-100 нм,...

Номер патента: 7267

Опубликовано: 30.09.2005

Авторы: Агейченко Александр Степанович, Матюшков Владимир Егорович, Тихончук Георгий Иванович, Богуш Александр Львович, Цуран Владимир Ильич, Гуревич Элла Семеновна

МПК: G02B 17/00, G03F 7/20, G02B 27/18...

Метки: экспонирования, увеличением, система, проекционная

Текст:

...выполнены зеркальными, содержит две двояковыпуклые линзы, расположенные по обе стороны от призменного блока,одна из которых - перед плоскостью предметов, а вторая - перед плоскостью изображений, линза выполнена двояковыпуклой и расположена на расстоянии, составляющем 0,50,8 расстояния от плоскости предметов или плоскости изображений до вогнутого зеркала,двухлинзовый компонент состоит из двояковогнутой и двояковыпуклой линз и...

Номер патента: 4983

Опубликовано: 30.03.2003

Авторы: Матюшков Владимир Егорович, Райхман Яков Аронович

МПК: G03F 7/20

Метки: широкопольная, экспонирующая, система

Текст:

...между точками рабочего поля шаблонов, располагаемых вдоль какой- либо координатной оси, на величину двойного размера максимального поля изображения по соответствующей координатной оси. Ось поворотной каретки координатного стола пластины смещена к одному из углов каретки линейных перемещений. Шаблоны, каждый или группами, размещены на поворотной каретке координатного стола шаблонов с разной взаимоперпендикулярной или одинаковой...

Номер патента: 4415

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: Макаревич Юрий Евгеньевич, Матюшков Владимир Егорович, Райхман Яков Аронович

МПК: G03F 7/20

Метки: монтажная, экспонирующая, система

Текст:

...с ними, по меньшей мере, в трех точках каждое. Датчики для автоматической фокусировки выполнены в виде датчиков расстояния. Суть изобретения поясняется чертежом, где на фигуре изображен общий вид монтажной экспонирующей системы. Монтажная экспонирующая система содержит основание, выполненное в виде рамы 1 и опорных столбиков 2, корпус в виде балки 3 предпочтительно из твердокаменных пород, связанный посредством демпферных элементов 4 с...

Номер патента: 2658

Опубликовано: 30.03.1999

Авторы: Матюшков Владимир Егорович, Гуревич Элла Семеновна, Райхман Яков Аронович, Стригельский Виктор Владимирович, Свидельский Арнольд Петрович

МПК: G03F 7/30

Метки: экспонирования, широкоформатная, система

Текст:

...Предложенное техническое решение позволяет получить плоскопараллельные дисплеи больших размеров, повысить их качество, снизить эксплуатационную стоимость и повысить производительность системы. Суть изобретения поясняется чертежами, где на фиг. 1 изображена общая схема системы экспонирования на фиг. 2 схематически изображен координатный стол шаблонов (вид сверху) на фиг 3 показана структура шаблона на фиг. 4 изображена схема датчика...

Номер патента: 2561

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Райхман Яков Аронович, Зайцев Валентин Андреевич, Агейченко Александр Степанович, Мелешко Алексей Вячеславович, Сосно Игорь Павлович, Матюшков Владимир Егорович, Мельник Сергей Петрович, Забродский Геннадий Анатольевич, Стригельский Виктор Владимирович

МПК: G03F 7/20

Метки: устройство, широкоформатного, экспонирования

Текст:

...относительно проекционной системы так, что при его нахождении в центре поля перемещений изображение отстоит от края каретки на расстоянии, равном половине хода координатного стола. Предложенное техническое решение позволяет упростить конструкцию устройства и увеличить размер экспонирующих пластин. Суть изобретения поясняется чертежами, где на фиг.1 - изображена общая схема устройства на фиг.2 - приведен датчик контроля точности поворота...