Бахматова Надежда Андреевна
Состав для проявления позитивного фоторезиста
Номер патента: 11541
Опубликовано: 28.02.2009
Авторы: Кисель Анатолий Михайлович, Бахматова Надежда Андреевна, Плебанович Владимир Иванович, Емельянов Виктор Андреевич, Медведева Анна Борисовна
МПК: G03F 7/32
Метки: проявления, позитивного, фоторезиста, состав
Текст:
...бак установки приготовления растворов расчетный объем воды. 2.3. Взвесить расчетные массы гидроксида натрия, синтанола АЛМ-10, полиэтиленгликоля 4000 и высыпать в транспортную емкость. 2.4. Перемешать полученный состав. Оптимальные пределы концентраций основных компонентов заявляемого состава подтверждены примерами. Для приготовления заявляемого состава были взяты различные концентрации гидроксида натрия, синтанола АЛМ-10, полиэтиленгликоля...