Патенты с меткой «обратной»
Способ формирования металлизации обратной стороны кристалла полупроводникового прибора
Номер патента: 18283
Опубликовано: 30.06.2014
Авторы: Керенцев Анатолий Федорович, Турцевич Аркадий Степанович, Дудкин Александр Иванович, Соловьев Ярослав Александрович, Подковщиков Николай Николаевич
МПК: C23C 14/16, H01L 21/58
Метки: способ, стороны, полупроводникового, кристалла, формирования, металлизации, прибора, обратной
Текст:
...и повышению выхода годных ПП. Нанесение первого слоя золота толщиной 0,75-0,95 мкм при температуре 300-340 С способствует частичному проникновению кремния в слой золота, что улучшает качество присоединения кристаллов к кристаллодержателю. При толщине первого слоя золота менее 0,75 мкм образуется малое количество эвтектики золото-кремний, что приводит к снижению качества присоединения кристаллов к кристаллодержателю. При толщине слоя...
Металлизация обратной стороны кристалла полупроводникового прибора
Номер патента: 18282
Опубликовано: 30.06.2014
Авторы: Соловьев Ярослав Александрович, Керенцев Анатолий Федорович, Дудкин Александр Иванович, Турцевич Аркадий Степанович
МПК: C23C 14/16, H01L 21/58
Метки: стороны, обратной, прибора, полупроводникового, кристалла, металлизация
Текст:
...задачи объясняется следующим образом. Использование ванадия в качестве адгезионного слоя обеспечивает адгезию золота к кремнию с минимальным образованием возможных окисных прослоек, что способствует более эффективному диффузионному проникновению кремния в слой золота. Это приводит к улучшению качества присоединения кремниевого кристалла к кристаллодержателю полупроводникового прибора и повышению выхода годных ПП. Выполнение слоя золота...
Лазер на красителе со светоиндуцированной распределенной обратной связью
Номер патента: 17687
Опубликовано: 30.10.2013
Авторы: Катаркевич Василий Михайлович, Эфендиев Терлан Шаид оглы, Рубинов Анатолий Николаевич
МПК: H01S 3/00
Метки: лазер, светоиндуцированной, связью, обратной, распределенной, красителе
Текст:
...красителя на длинах волн 1 и 2, - угол между гранью клина, контактирующей с раствором, и нормалью к границе раздела призма-раствор, гдеи- минимальная и максимальная длины волн из указанного диапазона, при этом на все грани призмы и внешние грани окон кюветы нанесены просветляющие покрытия соответственно на длинах волн накачки и генерации перестройки длины волны генерации. Сущность предлагаемого изобретения поясняется фигурами на фиг. 1...
Многолучевая лампа обратной волны
Номер патента: 16356
Опубликовано: 30.10.2012
Авторы: Аксенчик Анатолий Владимирович, Рудницкий Антон Сергеевич, Кураев Александр Александрович, Киринович Ирина Федоровна
МПК: H01J 25/46
Метки: волны, многолучевая, обратной, лампа
Текст:
...узкими стенками волновода, а длина отрезкаизогнутого волновода, расположенного между соседними соосными отверстиями, и периодэлектродинамической системы определены в соответствии с выражением для условия фазового синхронизма 2 2 01( 2 )0 - относительная скорость электронов 0 - начальная скорость электронов- скорость света в вакууме- длина волны генерируемого сигнала 0 - частота генерируемого сигнала 0 - длина волны генерируемого сигнала в...
Лазер со стационарной распределенной обратной связью
Номер патента: 15839
Опубликовано: 30.04.2012
Авторы: Катаркевич Василий Михайлович, Эфендиев Терлан Шаид оглы, Рубинов Анатолий Николаевич
МПК: H01S 3/00, H01S 3/213
Метки: лазер, связью, стационарной, распределенной, обратной
Текст:
...выдерживали в течение 1 часа при этой температуре. Приготовленный таким образом раствор (концентрация красителя при этом составляла 2,510-4 моль/л при весовой концентрации наночастиц 2 2,5 ) заливали в кювету, в которой он студенился при комнатной температуре в течение не менее одних суток. Возбуждение РОС-лазера осуществлялось излучением второй гармоники АИГ 3 лазера. Излучение накачки, сфокусированное в полоску, направлялось на входную грань...
Твердотельный лазер на красителях с распределенной обратной связью
Номер патента: U 7845
Опубликовано: 30.12.2011
Авторы: Катаркевич Василий Михайлович, Рубинов Анатолий Николаевич, Эфендиев Терлан Шаид оглы
МПК: H01S 3/00
Метки: распределенной, красителях, обратной, лазер, связью, твердотельный
Текст:
...значение температурного коэффициента показателя преломления /, у стекла ЛК 6 температурный коэффициент показателя преломления имеет отрицательное значение (ГОСТ 13659-78). Длина волны генерации г такого лазера определяется формулойк н,гпргде к и пр - показатели преломления композита МКС с ЭП и материала призмы соответственно, н - длина волны излучения накачки,- угол падения пучка накачки на границу раздела призма - композит. 2...
Лазер с распределенной обратной связью с объемной стационарной решеткой
Номер патента: 14574
Опубликовано: 30.06.2011
Авторы: Катаркевич Василий Михайлович, Эфендиев Терлан Шаид оглы, Рубинов Анатолий Николаевич
МПК: H01S 3/00, H01S 3/213
Метки: обратной, лазер, распределенной, объемной, решеткой, стационарной, связью
Текст:
...энергии импульсов 50 мДж/см. Доза облучения составляла 200 Дж/см 2. Из фиг. 1 видно, что наличие продуктов фотораспада приводит к появлению дополнительного поглощения геля в коротковолновой области спектра. Качественно подобная картина трансформации спектра поглощения наблюдается и при облучении желатинового геля, активированного другими красителями. В качестве примера на фиг. 2 приведены спектры поглощения необлученного (кривая 1) и...
Способ формирования металлизации обратной стороны кремниевой пластины
Номер патента: 9677
Опубликовано: 30.08.2007
Авторы: Соловьев Ярослав Александрович, Турцевич Аркадий Степанович, Глухманчук Владимир Владимирович, Ануфриев Дмитрий Леонидович
МПК: H01L 23/48, H01L 21/02
Метки: металлизации, способ, кремниевой, формирования, стороны, обратной, пластины
Текст:
...кремний) придает буферному слою дополнительную устойчивость к процессам электромиграции и шипообразования, которые могут происходить во время пайки кристалла, а также в процессе эксплуатации ИСМЭ. Кроме того, нанесение сплавов алюминия в качестве материала буферного слоя позволяет ограничить взаимную диффузию кремния и алюминия повысить стойкость металлизации к воздействию повышенной температуры. Утонение кремниевой пластины со...
Способ обратной литографии
Номер патента: 7220
Опубликовано: 30.09.2005
Авторы: Белятко Дмитрий Петрович, Прудник Александр Михайлович, Лыньков Леонид Михайлович, Болдышева Ирина Петровна
МПК: H01L 21/033
Метки: литографии, обратной, способ
Текст:
...алюминия, формирование контактной маски путем селективного травления пленки алюминия,нанесение пленки рабочего материала и удаление контактной маски 2. Недостатком данного способа является ограниченный диапазон применяемых рабочих материалов. Задачей настоящего изобретения является получение технического результата, который выражается в понижении температуры взрыва (удаления) контактной маски, что позволит расширить диапазон используемых...
Способ бурения скважин с обратной промывкой и установка для его осуществления
Номер патента: 6637
Опубликовано: 30.12.2004
Авторы: Панасюк Анатолий Иванович, Кедо Сергей Антонович, Капустин Владимир Николаевич
МПК: E21B 21/02
Метки: обратной, бурения, скважин, промывкой, осуществления, установка, способ
Текст:
...с частицами разбуренных пород, которые с помощью созданного мощного гидравлического потока мгновенно подхватывают, перемешивают и через диффузорный отводящий патрубок, расположенный сверху на вершине конусообразной полости эжектора, и трубу скважинной колонны ускоренно подают на поверхность. Установка для осуществления предложенного способа бурения скважин с обратной промывкой содержит транспортное средство 1 с подъемными лебедками (на...
Способ обратной литографии
Номер патента: 2428
Опубликовано: 30.09.1998
Авторы: Петров Николай Петрович, Богуш Вадим Анатольевич, Лыньков Леонид Михайлович, Жданович Сергей Вячеславович, Прудник Александр Михайлович
МПК: H01L 21/312
Метки: способ, обратной, литографии
Текст:
...вакуумной камере установки УВН-2 М-3 электронно-лучевым методом наносили пленку алюминия толщиной 1 мкм. На технологической линии Лада на пленку алюминия наносили слой резиста. С помощью стандартных методов вскрывали окна в слое алюминия. Затем методом газофазного окисления в смеси аргона, моносилана и кислорода при температуре 370 С осаждали рабочую пленку 2 толщиной 1,5 мкм. Затем на установке Изоприн структуру подвергали импульсной...