Патенты с меткой «тлеющего»
Устройство для контроля интенсивности излучения плазмы тлеющего разряда
Номер патента: U 10193
Опубликовано: 30.08.2014
Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна, Волченков Александр Владимирович, Редько Всеволод Петрович, Логвин Владимир Александрович
МПК: C23C 14/38
Метки: разряда, интенсивности, устройство, плазмы, тлеющего, излучения, контроля
Текст:
...а вокруг направляющих установлены фиксирующе-затеняющие упругие шторки. На внутренней стороне корпуса вне направляющих дополнительно установлены прижимы с возможностью быстрой установки и снятия по меньшей мере одного интерференционного фильтра. В процессе обработки изделий из металлов и сплавов в плазме тлеющего разряда для достижения оптимальных параметров плазмы и соответственно качества обработки необходимо контролировать степень...
Устройство для контроля электромагнитного излучения плазмы тлеющего разряда
Номер патента: U 9963
Опубликовано: 28.02.2014
Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович, Редько Всеволод Петрович, Терешко Ирина Васильевна, Волченков Александр Владимирович
МПК: C23C 14/38
Метки: электромагнитного, излучения, устройство, разряда, контроля, плазмы, тлеющего
Текст:
...корпус, который установлен снаружи вакуумной камеры около смотрового окна, при этом одна ось симметрии токопроводящего контура расположена в плоскости, параллельной плоскости смотрового окна, а вторая ось симметрии токопроводящего контура перпендикулярна ей. Дополнительно устройство снабжено по меньшей мере одним токопроводящим контуром, и токопроводящие контуры расположены с равным угловым шагом относительно оси симметрии...
Установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля
Номер патента: U 9478
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Шеменков Владимир Михайлович, Белая Марина Александровна, Батраков Александр Сергеевич, Шеменкова Алла Леонидовна, Малутин Виталий Викторович
МПК: C23C 14/00
Метки: вакуумная, упрочнения, воздействием, изделий, постоянного, комплексным, поля, тлеющего, разряда, установка, магнитного
Текст:
...раз больше площади анода, который расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в вакууме с разрежением 1,33-53,2 Па, тлеющим разрядом с напряжением 0,1-10 кВ, катод расположен в силовых линиях постоянного магнитного поля,и плотность тока между анодом и катодом 0,001-0,50 мА/см 2. В предлагаемой вакуумной установке зажигание и устойчивое горение тлеющего разряда осуществляется благодаря оптимальному подбору соотношений между площадями...
Вакуумная установка для тлеющего разряда
Номер патента: U 8618
Опубликовано: 30.10.2012
Авторы: Буланов Александр Николаевич, Никитин Виктор Михайлович, Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович, Волченков Александр Владимирович
МПК: C23C 14/00
Метки: тлеющего, вакуумная, установка, разряда
Текст:
...и катодной цепях и изменению напряжения, подаваемого на первичную обмотку питающего трансформатора блока питания. Для задания законов изменения тока или напряжения блок стабилизации дополнительно снабжен блоком памяти,а на панели управления выполнен разъем для подключения компьютера. Параллельно ре 2 86182012.10.30 зистивному датчику тока дополнительно включен осциллограф, что позволяет отслеживать форму тока в анодной или катодной цепи, а...
Вакуумная установка для тлеющего разряда
Номер патента: U 6444
Опубликовано: 30.08.2010
Авторы: Жолобов Александр Алексеевич, Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович
МПК: C23C 14/00
Метки: установка, вакуумная, разряда, тлеющего
Текст:
...вершины. Полая пирамида из диэлектрического материала имеет дополнительный объем и установлена на корпусе вакуумной камеры так, что катод расположен внутри ее выше основания. Полая пирамида из диэлектрического материала выполнена из стекла. В предлагаемой установке возникновение и устойчивое горение тлеющего разряда с формированием характерных структур осуществляется благодаря ограничению объема рабочего пространства между анодом и...
Устройство для получения неравновесной плазмы тлеющего разряда при атмосферном давлении
Номер патента: 10597
Опубликовано: 30.04.2008
Авторы: Архипенко Валерий Иванович, Симончик Леонид Васильевич, Згировский Сергей Михайлович
МПК: H05H 1/24, H05B 7/144
Метки: получения, давлении, плазмы, устройство, тлеющего, атмосферном, неравновесной, разряда
Текст:
...узлы, системы охлаждения, подачи-отвода газа и электропитания. Новым, по мнению авторов, является то, что система электропитания дополнительно содержит источник питания пульсирующего напряжения, подключенный параллельно к стабилизированному источнику питания, причем положительные полюса источников соединены через балластные резисторы с анодом, отрицательные полюса соединены с катодом, а развязка источников осуществляется с помощью диода. Общий...
Устройство для получения объемной неравновесной плазмы тлеющего разряда при атмосферном давлении
Номер патента: U 3600
Опубликовано: 30.06.2007
Авторы: Симончик Леонид Васильевич, Архипенко Валерий Иванович
МПК: H05H 1/24
Метки: атмосферном, устройство, неравновесной, получения, тлеющего, разряда, объемной, давлении, плазмы
Текст:
...напряжения между вторым и третьим электродами. Недостатком данного устройства является малая величина разрядного тока, малый объем плазмы (до 1 см 3). Задачей заявляемой полезной модели является увеличение более чем на порядок объема неравновесной плазмы тлеющего разряда при атмосферном давлении. Поставленная задача решается заявляемым устройством, которое содержит разрядную камеру, три электрода, два источника питания постоянного тока,...