Раствор для травления тантала

Комитет Российской Федерации по патентам и товарным знакам(56) Парусников илр. ст. Очистка горячетянутой танталовой проволоки от графитовой смазки. Цветные металлы. Ы 10. 1983,сЛЗ-Тб. Ямпольский А.М. Травление Металлов. м.-л. Машиностроение, 1964, с.108.(54) РАСТВОР для тгявлвния ТАНТА ЛА 1(57) Раствор для травления тантала, содержащий фтористоводородную кислоту и воду,отличающийся тем, что, с целью улучшения качества, повышения равномерности иувеличения (скорости травления, он дополнительно содержнт концентрированную соляНУЮ КИСЛОТ) при СЛСДУЮЩВМ СООТНОШЕШП компонентов, мас.ч. Фторнсговодородная кислота - 0.5 2 Солянаягкислота 2 - 4 Вода 2 - 4Изобретение касается химической обработки металлов. в частности травления тантала. и может быть использовано. например. в электронной технике при производстве дискретных Полупроводниковых приборов и интегральных схем.Целью изобретения является улучшеПосле нанесении пленки тантала накремниевую подложку в установке вакуумного напыления плазменным распылением ее извлекают из установки. и на ппенкутантала наносят фоторезис-т. вскрывают контактные окна в нем. затем высушивают. В результате на поверхности пленки тантала в скрытых контактных окнах образуется тонкий слой оксида тантала.Известный раствор, содержащий фтористоводородную кислоту в смеси с азотной кислотой. слабо растворяет оксид тантала.поэтому процесс травления пленки тантала получается неравномерным и медленным,Назначение соляной кислоты снятие оксида тантала - ускоряет процесс травпениятантала. В то же время НС является поставщиком Н Е. ЧТО Оддгпживает стабильность раствора и обеспечивает равъчомерность травления. аСравнительные данные, полученные при травлении тантала, толщиной 400 500 д. нанесенного на кремниевую подложку с удельным сопротивлением 1 Ом/см со слоем оксида кремния и сформированными в ней Р-обпастями в предложенном р-астворе и в известном приведены в таблице.из анализа приведенных данных следует, что (пример 3) травление равномерное,обеспечивает полное вытравливание та нта лабаз подтравов. скорость травления составляет 00005 - 0.0006 мкм/с. высокий процент выхода годных 99.871 умикроскоп мость по верхности водой