G03C 1/72 — светочувствительные составы, не отнесенные к рубрикам
Способ получения фотохромного материала на основе поливинилового спирта и фосфорно-вольфрамовой кислоты
Номер патента: 15576
Опубликовано: 28.02.2012
Авторы: Сушко Наталья Ивановна, Третинников Олег Николаевич
Метки: фосфорно-вольфрамовой, поливинилового, получения, способ, кислоты, материала, основе, фотохромного, спирта
Текст:
...Толщина пленок, определенная с помощью измерителя толщины ИЗВ-2, составила 16,2 и 17,6 мкм соответственно. Измерения спектров поглощения пленок на спектрофотометре 500 показали, что пленки не имеют полос поглощения в видимой области спектра 400-800 нм и их оптическая плотность составляет 0,04-0,05(фиг. 4). Пленки экспонировали УФ-излучением с длиной волны 365 нм. Источником излучения являлись две спаренные ртутные лампы высокого давления...
Негативный фоторезист
Номер патента: 5806
Опубликовано: 30.12.2003
Авторы: Могильный Владимир Васильевич, Станкевич Александр Ильич
МПК: G03C 1/72
Метки: фоторезист, негативный
Текст:
...экспозиции Н 0,1 и Н 0,9,соответствующие толщине рельефа 0,1 и 0,9 от исходной. Рассчитывают контрастность 0,8/(0,9/0,1). Данные приведены в таблице. Пример 2. Готовят фоторезист, растворяя 1,5 г сополимера с содержанием ФФМ-звеньев 13,5 мас.и 0,1 г ксантона в 18,5 г хлорбензола. Методика определения светочувствительности и контрастности аналогична примеру 1. Данные приведены в таблице. Пример 3. Готовят фоторезист, растворяя 1,5 г...
3H, 1ОH-2-Оксо- 4-тиазолино [4,5-b] [1,5]-бензодиазепин в качестве маскирующего материала для микролитографии
Номер патента: 734
Опубликовано: 30.06.1995
Авторы: Конышева Т. В., Спицын Н. В., Агабеков В. Е., Азарко В. А., Кочканян Р. А., Луканюк С. С., Михайловский Ю. К., Невдах О. П.
МПК: G03C 1/72, C07D 513/04, H01L 21/02...
Метки: маскирующего, 4-тиазолино, микролитографии, материала, качестве, 4,5-b, 1,5]-бензодиазепин, 1оh-2-оксо
Текст:
...(кремний дырочной проводимости, легированный бором, с удельным сопротивлением 0,3 Ом-см) диаметром 100 мм толщиной 4601 10 мкм закрепляют на верхнем срезе стакана-цилиндра высотой 120 мм(по центру нижнего среза размещается испаритель). Камеру ВУП-4 вакуумируют до 2,4 105 Торр, температуру испарителя доводят до 26010 С, открывают заслонку и в течение 6 мин напыляют пленку. Навеска испаряется полностью, остатка нет.На подложке образуется...
1H, 11H-2,4-Диоксо-3-фенил-пиримидо-[4,5-b] [1,5]-бензодиазепин в качестве маскирующего материала для микролитографии
Номер патента: 732
Опубликовано: 30.06.1995
Авторы: Агабеков В. Е., Михайловский Ю. К., Кочканян Р. А., Конышева Т. В., Луканюк С. С., Спицын Н. В., Азарко В. А., Невдах О. П.
МПК: H01L 21/02, C07D 487/04, G03C 1/72...
Метки: качестве, маскирующего, 1,5]-бензодиазепин, микролитографии, 11h-2,4-диоксо-3-фенил-пиримидо-[4,5-b, материала
Текст:
...1 представляет собой порошок кораллового цвета с температурой плавления 349-350 50. Найдено, Х С 66,94 Н 4,08 М 18,29. Бруттоформула 017 Н 12 Ы 403. Молекулярная масса З 0 аЗ 0. Вычислено, 1 С1372 СС 1535 СЫ 1565 СО 1695 -НС ЗОЗ 5 СНарФм 3062 Ф ЬЫ-Н 3285. УФспентр (пленки) итал, нм 260, 356, 446. При термическом вакуумном испаренииглянцевые пленки с орошеь адгезией н полупроводниковым, стенлнн Нин, полимерным и нетащличесиим подлоннам....