Установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля
Номер патента: U 9478
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Белая Марина Александровна, Батраков Александр Сергеевич, Шеменкова Алла Леонидовна, Малутин Виталий Викторович, Шеменков Владимир Михайлович
Текст
(51) МПК НАЦИОНАЛЬНЫЙ ЦЕНТР ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ УСТАНОВКА ВАКУУМНАЯ ДЛЯ УПРОЧНЕНИЯ ИЗДЕЛИЙ КОМПЛЕКСНЫМ ВОЗДЕЙСТВИЕМ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА И ПОСТОЯННОГО МАГНИТНОГО ПОЛЯ(71) Заявитель Государственное учреждение высшего профессионального образования Белорусско-Российский университет(72) Авторы Шеменков Владимир Михайлович Белая Марина Александровна Малутин Виталий Викторович Шеменкова Алла Леонидовна Батраков Александр Сергеевич(73) Патентообладатель Государственное учреждение высшего профессионального образования Белорусско-Российский университет(57) Установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля, состоящая из вакуумной камеры, откачного поста, блока питания, анода и катода, отличающаяся тем, что площадь катода в 5-150 раз больше площади анода, который расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в вакууме с разрежением 1,33-53,2 Па, тлеющим разрядом с напряжением 0,1-10 кВ, катод расположен в силовых линиях постоянного магнитного поля и плотность тока между анодом и катодом - 0,001-0,50 мА/см 2.(56) 1. Ходырев В.И., Короткевич А.Ф., Шеменков В.М. Прогрессивные электрофизические методы упрочнения твердосплавного инструмента // Вестник МГТУ Электромеханика, приборостроение и информатика. - 2002. -2 - С. 159-163. 2. Патент 8733, МПК С 23 С 14/00, 2012. 94782013.08.30 Полезная модель относится к области обработки изделий из металлов или сплавов или сверхтвердых материалов немеханическими способами, характеризующимися использованием тлеющего разряда и может найти применение в приборостроении, машиностроении, инструментальном производстве, а также в других отраслях промышленности. Известна установка, состоящая из вакуумной камеры, откачного поста, блока питания,анода и катода 1. Данная установка имеет анод и катод с одинаковыми площадями. Наиболее близкой по технической сущности и достигаемым результатам является установка вакуумная для упрочнения изделий тлеющим разрядом, состоящая из вакуумной камеры, откачного поста, блока питания, анода и катода, рабочая поверхность анода в 20100 раз меньше рабочей площади катода, на аноде со стороны рабочей поверхности сделано углубление глубиной до 2 мм и диаметром на 1-2 мм меньше наружного диаметра анода, расстояние между анодом и катодом составляет от 50 до 300 мм 2. Однако принятая за прототип вакуумная установка имеет ряд недостатков, а именно низкую эффективность процесса упрочнения вследствие нерационального соотношения энергетических характеристик, также указанный способ упрочнения имеет малую производительность и относительно большое время обработки. Задачей полезной модели является повышение энергоэффективности работы, производительности и технологических возможностей вакуумной установки за счет оптимального подбора соотношения площадей торцовых поверхностей катода, за которым расположен постоянный магнит, и анода формы торцовой поверхности анода и расстояния между анодом и катодом. Указанная задача достигается тем, что установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля, состоящая из вакуумной камеры, откачного поста, блока питания, анода и катода, согласно полезной модели, площадь катодов 5-150 раз больше площади анода, который расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в вакууме с разрежением 1,33-53,2 Па, тлеющим разрядом с напряжением 0,1-10 кВ, катод расположен в силовых линиях постоянного магнитного поля,и плотность тока между анодом и катодом 0,001-0,50 мА/см 2. В предлагаемой вакуумной установке зажигание и устойчивое горение тлеющего разряда осуществляется благодаря оптимальному подбору соотношений между площадями рабочих поверхностей анода и катода, расстоянию между ними, а также расположением катода в силовых линиях постоянного магнитного поля, что в свою очередь приводит к повышению эффективности работы и сокращению времени обработки. Сущность полезной модели поясняется фигурами, на которых схематично изображено заявляемое устройство. На фиг. 1 показана схема заявляемого устройства, на фиг. 2 - катод, находящийся в силовых линиях постоянного магнитного поля. Анод 1, выполненный из токопроводящего материала или их комбинации, установлен в диэлектрическом стакане 2, закрепленном на корпусе вверху вакуумной камеры 3. На противоположной стороне внизу вакуумной камеры 3 расположен катод 4, площадь которого в 5-150 раз больше площади анода. Катод расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в силовых линиях постоянного магнитного поля магнита 19, на диэлектрическом основании 5, изолирующем катод 4 от камеры 3. Катод 4 и анод 1 подключены к блоку питания 6 постоянного тока, состоящего из преобразователя высокого напряжения 14 и специального блока измерения 15. Откачной пост 18 состоит из форвакуумного насоса 8,заслонки паромасляного диффузионного насоса 12, самого диффузионного насоса 13, ловушки 16 и клапанов 9 и 10. Установка работает следующим образом. Изделия 7, подлежащие упрочнению, помещают на катоде 4, площадь которого в 5-150 раз больше площади анода. Катод расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в силовых линиях постоянного магнитного поля магнита 19, под анодом 1. Камеру закрывают и откачивают воздух до рабочего давления 2 94782013.08.30 при помощи форвакуумного насоса 8 при открытых клапанах 9 и 10, устанавливая величину разрежения 1,33-53,2 Па и контролируя ее вакуумметром 11. Заслонку 12 паромасляного диффузионного насоса 13 закрывают и включают цепь питания преобразователя высокого напряжения 14, благодаря чему между анодом 1 и катодом 4 создается разность потенциалов, величину которой устанавливают в необходимых пределахпри помощи специального блока измерения 15 блока питания 6. В результате этого возникает пробой разрядного промежутка с возникновением тлеющего разряда с напряжением 0,1-10 кВ. Далее устанавливают величины давления остаточных газов, напряжения горения разряда и плотности тока между анодом и катодом 0,001-0,50 мА/см 2. Ловушка 16 препятствует проникновению в рабочую область камеры паров масла из нагреваемого паромасляного диффузионного насоса. Особенностью является то, что в процессе обработки эмитированные с катода 4 (изделия) под действием ионной бомбардировки электроны захватываются магнитным полем и оказываются в его ловушке. Циркулируют в нем до тех пор, пока не произойдет несколько ионизирующих столкновений с атомами остаточных атмосферных газов, в результате которых они теряют полученную от электрического поля энергию. Тем самым значительно повышают эффективность процесса ионизации и концентрацию положительных ионов у поверхности катода. Что приводит к увеличению интенсивности ионной бомбардировки изделия и значительному росту скорости упрочнения, тем самым сокращая время обработки. После окончания обработки в камеру 3 напускают воздух путем открытия клапана 17. Национальный центр интеллектуальной собственности. 220034, г. Минск, ул. Козлова, 20. 3
МПК / Метки
МПК: C23C 14/00
Метки: разряда, поля, магнитного, упрочнения, установка, комплексным, вакуумная, тлеющего, изделий, воздействием, постоянного
Код ссылки
<a href="https://by.patents.su/3-u9478-ustanovka-vakuumnaya-dlya-uprochneniya-izdelijj-kompleksnym-vozdejjstviem-tleyushhego-razryada-i-postoyannogo-magnitnogo-polya.html" rel="bookmark" title="База патентов Беларуси">Установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля</a>
Предыдущий патент: Тепловой насос
Следующий патент: Локомотивная приёмная катушка
Случайный патент: Способ повышения качества спермопродукции у хряков-производителей