Патенты с меткой «комплексным»
Установка вакуумная для упрочнения изделий комплексным воздействием тлеющего разряда и постоянного магнитного поля
Номер патента: U 9478
Опубликовано: 30.08.2013
Авторы: Шеменков Владимир Михайлович, Батраков Александр Сергеевич, Белая Марина Александровна, Шеменкова Алла Леонидовна, Малутин Виталий Викторович
МПК: C23C 14/00
Метки: постоянного, вакуумная, поля, установка, разряда, изделий, тлеющего, комплексным, воздействием, упрочнения, магнитного
Текст:
...раз больше площади анода, который расположен на расстоянии 0,1-1,0 м от анода в вакууме с разрежением 1,33-53,2 Па, тлеющим разрядом с напряжением 0,1-10 кВ, катод расположен в силовых линиях постоянного магнитного поля,и плотность тока между анодом и катодом 0,001-0,50 мА/см 2. В предлагаемой вакуумной установке зажигание и устойчивое горение тлеющего разряда осуществляется благодаря оптимальному подбору соотношений между площадями...