Патенты с меткой «слитка»
Устройство вторичного охлаждения слитка
Номер патента: U 8440
Опубликовано: 30.08.2012
Авторы: Стеценко Владимир Юзефович, Новиков Вадим Владимирович, Певнев Александр Михайлович
МПК: B22D 27/04
Метки: вторичного, слитка, устройство, охлаждения
Текст:
...слитка, включающем корпус с патрубками, фланцы, перегородку, экран, отстоящий от слитка на расстоянии от 8 до 60 мм, на поверхности экрана выполнены продольные сквозные пазы шириной от 2 до 25 мм с шагом от 4 до 100 мм. Выполнение на поверхности экрана сквозных продольных пазов увеличивает на слитке площадь зон с более интенсивным (струйным) охлаждением. Это повышает интенсивность охлаждения слитка и увеличивает производительность процесса....
Устройство вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка
Номер патента: U 8439
Опубликовано: 30.08.2012
Авторы: Стеценко Владимир Юзефович, Певнев Александр Михайлович, Коновалов Роман Владимирович
МПК: B22D 27/04
Метки: непрерывнолитого, охлаждения, устройство, слитка, вторичного
Текст:
...вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка, содержащем кожух с патрубками, фланцы, кольцевой коллектор, отстоящий от фланцев на расстоянии от 10 до 100 мм, а от слитка - вверху на расстоянии от 4 до 45 мм, а внизу на расстоянии от 10 до 90 мм, на ближайшей к непрерывнолитому слитку поверхности коллектора выполнены продольные сквозные пазы шириной от 2 до 20 мм с шагом от 4 до 80 мм. Выполнение сквозных продольных пазов на ближайшей к...
Кристаллизатор для горизонтального литья слитка структурно-высокодисперсного модификатора
Номер патента: 14149
Опубликовано: 30.04.2011
Авторы: Стеценко Владимир Юзефович, Марукович Евгений Игнатьевич
МПК: B22D 11/00
Метки: модификатора, слитка, литья, структурно-высокодисперсного, кристаллизатор, горизонтального
Текст:
...и снижении стоимости структурно-высокодисперсных модификаторов. Поставленная задача достигается тем, что заявляемый кристаллизатор для горизонтального литья слитка структурно-высокодисперсного модификатора, включающий корпус с подводящим и двумя отводящими патрубками для охладителя, экран, на поверхности которого выполнены отверстия, диаметр каждого из которых составляет от 3 до 20 мм, с шагом по образующей от 1,5 до 3 диаметров отверстия,...
Кристаллизатор для горизонтального литья структурно-высокодисперсного чушкового слитка
Номер патента: 14276
Опубликовано: 30.04.2011
Авторы: Стеценко Владимир Юзефович, Марукович Евгений Игнатьевич
МПК: B22D 11/00
Метки: структурно-высокодисперсного, горизонтального, кристаллизатор, чушкового, литья, слитка
Текст:
...диаметр каждого из которых составляет от 3 до 20 мм, с шагом от 1,5 до 3 диаметров отверстия, при этом корпус содержит дополнительный отводящий патрубок, а подводящий патрубок установлен в нижнем фланце рубашка выполнена в виде изложницы глубиной более 20 мм, открытой со стороны вытягивания слитка корпус соединен с экраном, причем каждое отверстие в экране расположено под углом от 45 до 90 к донной поверхности изложницы перегородка соединена...
Дорн для литья полого слитка из алюминиевых сплавов
Номер патента: 13012
Опубликовано: 30.04.2010
Авторы: Марукович Евгений Игнатьевич, Стеценко Владимир Юзефович
МПК: B22D 11/04
Метки: слитка, литья, алюминиевых, дорн, сплавов, полого
Текст:
...охладителя, при этом внутренний стакан закреплен на крышке вниз дном так, что расстояние между ним и наружным стаканом составляет от 2 до 50 мм, при этом в боковой стенке внутреннего стакана выполнены отверстия диаметром от 1 до 20 мм с шагом по высоте и периметру от 2 до 6 диаметров отверстия. На фигуре представлен продольный разрез предлагаемого дорна. Он состоит из наружного стакана 1, наружная поверхность 2 которого выполнена с...
Дорн для литья полого слитка из металлов или сплавов
Номер патента: 13011
Опубликовано: 30.04.2010
Авторы: Марукович Евгений Игнатьевич, Стеценко Владимир Юзефович
МПК: B22D 11/04
Метки: металлов, сплавов, или, слитка, дорн, литья, полого
Текст:
...стакан закреплен на крышке вниз дном так, что расстояние между ним и наружным стаканом составляет от 2 до 50 мм, при этом в боковой стенке внутреннего стакана выполнены отверстия диаметром от 1 до 20 мм с шагом по высоте и периметру от 2 до 6 диаметров отверстия. На чертеже представлен продольный разрез предлагаемого дорна. Он состоит из наружного стакана 1, наружная поверхность 2 которого выполнена с переменной конусностью. Внутри...
Устройство для вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка
Номер патента: 12279
Опубликовано: 30.08.2009
Авторы: Стеценко Владимир Юзефович, Марукович Евгений Игнатьевич
МПК: B22D 11/00
Метки: вторичного, непрерывнолитого, устройство, слитка, охлаждения
Текст:
...мм с шагом по высоте и периметру от 2 до 4 диаметров отверстия. При зазоре между коллектором и фланцами менее 10 мм существенно увеличивается давление вблизи фланцев, что приводит к чрезмерному разбрызгиванию охладителя из щели между фланцами и слитком. При расстоянии между коллектором и фланцами более 100 мм уменьшается интенсивность охлаждения в нижней и верхней части устройства, что приводит к неравномерности охлаждения слитка. При...
Устройство вторичного охлаждения слитка при непрерывном литье
Номер патента: U 4627
Опубликовано: 30.08.2008
Авторы: Марукович Евгений Игнатьевич, Стеценко Владимир Юзефович
МПК: B22D 11/12
Метки: непрерывном, охлаждения, устройство, слитка, вторичного, литье
Текст:
...гидравлическое сопротивление входящему потоку, вследствие чего снижается давление охладителя в коллекторе и уменьшается интенсивность охлаждения слитка. Технической задачей, на решение которой направлена заявляемая полезная модель,является повышение интенсивности вторичного охлаждения слитка при непрерывном литье. Технический результат заключается в повышении производительности процесса непрерывного литья. Поставленная задача...
Устройство для вторичного охлаждения слитка
Номер патента: U 4638
Опубликовано: 30.08.2008
Авторы: Ривкин Александр Игоревич, Стеценко Владимир Юзефович, Марукович Евгений Игнатьевич
МПК: B22D 11/12
Метки: вторичного, устройство, слитка, охлаждения
Текст:
...корпусом с помощью перегородки, причем экран отстоит от слитка на расстоянии 8-60 мм, а на поверхности экрана выполнены отверстия диаметром 4-20 мм с шагом по высоте и периметру 2-5 диаметра отверстия. На чертеже представлен продольный разрез предлагаемого устройства. Оно состоит из корпуса 1, верхнего 2 и нижнего 3 фланцев, подводящего 4 и отводящих 5 патрубков, перегородки 6, экрана 7 с отверстиями 8, из которых истекают затопленные струи,...
Устройство вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка
Номер патента: U 4636
Опубликовано: 30.08.2008
Авторы: Марукович Евгений Игнатьевич, Стеценко Владимир Юзефович
МПК: B22D 11/12
Метки: вторичного, непрерывнолитого, устройство, охлаждения, слитка
Текст:
...брак отливок, особенно при непрерывном горизонтальном литье. Технической задачей, на решение которой направлена заявляемая полезная модель,является повышение стабильности процесса литья и качества непрерывнолитого слитка. Технический результат заключается в увеличении выхода годного литья. Поставленная задача достигается тем, что в заявляемом устройстве вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка, содержащем кожух с патрубками,...
Устройство для вторичного охлаждения непрерывнолитого слитка
Номер патента: U 3658
Опубликовано: 30.06.2007
Авторы: Марукович Евгений Игнатьевич, Стеценко Владимир Юзефович
МПК: B22D 11/00
Метки: слитка, вторичного, устройство, непрерывнолитого, охлаждения
Текст:
...зазоре между коллектором и фланцами менее 10 мм существенно увеличивается давление вблизи фланцев, что приводит к чрезмерному разбрызгиванию охладителя из щели между фланцами и слитком. При расстоянии между коллектором и фланцами более 100 мм уменьшается интенсивность охлаждения в нижней и верхней части устройства,что приводит к неравномерности охлаждения слитка. При установке коллектора на расстояние менее 10 мм от слитка эффективность...