Патенты с меткой «катодный»
Катодный палец с нанесенным в паз износостойким покрытием для ванн щелочного и кислого меднения агрегатов латунирования
Номер патента: U 6108
Опубликовано: 30.04.2010
Авторы: Савенок Анатолий Николаевич, Константинов Валерий Михайлович, Стефанович Александр Васильевич, Игнатенко Олег Иванович, Стефанович Василий Александрович
МПК: B21C 1/00
Метки: паз, покрытием, кислого, ванн, износостойким, катодный, палец, агрегатов, нанесенным, щелочного, меднения, латунирования
Текст:
...отсутствие искрообразования и удовлетворительная электропроводность. Технический результат, достигаемый при использовании полезной модели, является повышение ресурса работы катодных пальцев, снижение трудоемкости обслуживания агрегатов латунирования. Решение поставленной задачи достигается тем, что катодный палец с нанесенным в паз износостойким покрытием, для ванн щелочного и кислого меднения агрегатов латунирования, имеет аустенитную...
Катодный узел
Номер патента: 9560
Опубликовано: 30.08.2007
Авторы: Соловьев Ярослав Александрович, Турцевич Аркадий Степанович, Ануфриев Дмитрий Леонидович, Чапкович Анатолий Сергеевич, Тарасиков Михаил Васильевич
МПК: C23C 14/34
Текст:
...выступов на боковой поверхности катода-мишени не обеспечивается герметичное вакуум-плотное крепление катода-мишени к водоохлаждаемому держателю. Сущность изобретения поясняется фиг. 1-4, где на фиг. 1 схематично показано магнетронное распылительное устройство (МРУ) для ионно-плазменного напыления с катодным узлом в соответствии с прототипом, на фиг. 2 схематично показано устройство мишени для катодного узла МРУ согласно прототипу, на фиг. 3...
Катодный узел электроннолучевой трубки
Номер патента: 6595
Опубликовано: 30.12.2004
Авторы: Урбанович Александр Анатольевич, Шумило Виктор Степанович, Сычик Андрей Васильевич, Горожданов Александр Джонович, Предко Юрий Иванович, Сычик Василий Андреевич
МПК: H01J 1/308
Метки: катодный, трубки, узел, электроннолучевой
Текст:
...высокой подвижностью основных носителей - электронов. Им являются теллуриды и селениды цинка и кадмия, арсенид алюминия, антимонид алюминия, фосфид индия. Толщина эмиттерной области 2 и базовой области 1 выбираются стандартными для получения максимального коэффициента передачи инжектированных электронов от эмиттера 2 к коллектору 3. Обычно толщина области эмиттера составляет 0,51 мкм, а толщина области базы(0,50,8), где- диффузионная длина...
Катодный узел для ионно-плазменного нанесения пленок
Номер патента: 6143
Опубликовано: 30.06.2004
Авторы: Пиун Виктор Михайлович, Каморников Игорь Михайлович, Малащенко Алексей Терентьевич
МПК: C23C 14/34, C23C 14/35
Метки: узел, нанесения, катодный, ионно-плазменного, пленок
Текст:
...кольцеобразной пластины. В соответствии с изобретением улучшается не только охлаждение катода-мишени, но и постоянного магнита. Создание камеры охлаждения, согласно предложенному, и выполнение катода-мишени и держателя в виде пластин обеспечивает интенсивное охлаждение катода-мишени, за счет эффективного теплоотвода от катода-мишени через пластинудержатель, с одной стороны, и эффективное охлаждение магнитных наконечников и магнитопровода...
Катодный узел ЭЛТ
Номер патента: 4545
Опубликовано: 30.06.2002
Авторы: Сычик Василий Андреевич, Шумило Виктор Степанович, Урбанович Александр Анатольевич
МПК: H01J 1/308
Текст:
...электроны из канала 1 в -слой 5 в горячие, т.е. изотипный гетеропереход является источником горячих электронов. Как показали результаты эксперимента, для более эффективного диффузионного перемещения горячих электронов из канала 1 черезслой 5 в активированный слой 7 с низкой работой выхода этот слой 5 неравномерно легирован, например, по параболическому закону с максимальным обеднением основных носителей со стороны канала 1. Для...