Приставка к плазмотрону для напыления

(71) Заявитель Белорусский государственный университет транспорта(73) Патентообладатель Белорусский государственный университет транспорта(57) Изобретение относиться к области машиностроения и приборостроения, а именно к устройствам для нанесения покрытий из композиционных материалов плазменной струей. Приставка к плазмотрону для напыления состоит из корпуса, который изолирован от сопла прокладкой. В диаметрально расположенных отверстиях корпуса фиксируются ползушки со штуцерами подачи напыляемых материалов винтами. Наклон самих штуцеров к оси сопла фиксируется винтами с возможностью перемещения под углом от 0 до 180 относительно направления плазменной струи. Изобретение относится к области машиностроения и приборостроения, а именно к устройствам для нанесения покрытий из композиционных материалов плазменной струей. Известна приставка к горелке для напыления, содержащая соосную горелке цилиндрическую трубу и охватывающий ее с зазором кожух, выполненный с сужающейся к выходу полостью, оканчивающейся кольцевым соплом 1. Недостатком этого устройства является осаждение напыляемого материала на внутренней поверхности трубы, а также невозможность напыления композиционных покрытий. Наиболее близким по технической сущности является сопло для плазменной горелки, представляющее собой приставку к плазмотрону, содержащую электрически изолированный от сопла с отверстием для подачи 4367 1 напыляемого материала корпус 2. Однако данное устройство не может быть использовано для нанесения легкоплавких материалов, в том числе полимерных материалов, поскольку предусмотрен ввод распыляемого материала через сопло в высокотемпературную зону плазменной струи и не предполагается возможность его ввода в другие температурные зоны плазменного потока. При этом устройство не позволяет изменять угол и дистанцию ввода дисперсионных материалов в плазменную струю, что существенно для процесса напыления полимерных материалов. Кроме того, при одностороннем вводе дисперсного материала в плазменную струю происходит смещение транспортирующего газодисперсного потока с несущим потоком плазмы, что неизбежно сказывается на структуре формируемого покрытия. Задачей заявляемого изобретения является расширение номенклатуры используемых материалов и получение высококачественного наносимого покрытия. Технический результат, который может быть достигнут, заключается в том, что приставка к плазмотрону состоит из корпуса, который электрически изолирован от сопла плазмотрона и имеет отверстия. В диаметрально расположенных отверстиях установлены с помощью винтов с возможностью перемещения вдоль собственной оси ползушки, в пазах которых установлены штуцеры подачи напыляемого материала. Штуцеры закреплены в ползушках винтами с возможностью перемещения под углом от 0 до 180. Относительно направления плазменной струи. На чертеже изображено предлагаемое устройство. Приставка к плазмотрону для напыления состоит из корпуса 1, изолированного от сопла 2 прокладкой 3. В отверстиях корпуса фиксируются ползушки 4 со штуцерами подачи напыляемых материалов 5 винтами 6. Наклон самих штуцеров к оси сопла фиксируется винтами 7. Работа устройства осуществляется следующим образом. Проходя через возбуждаемую внутри плазмотрона электрическую дугу, плазмообразующий газ ионизируется и в виде плазменной струи истекает из сопла 2, и поступает в корпус приставки 1. В зависимости от марки распыляемого материала, а также от цели проведения процесса штуцеры 5 выставляются при помощи ползушек 4 на определенном расстоянии от сопла 2 и угла к оси плазменной струи. Напыляемый материал через встречно расположенные штуцеры 5 подается в плазменную струю. Такое выполнение устройства позволяет наряду с напылением тугоплавких материалов, вводимых через сопло, производить напыление легкоплавких материалов с оптимальными технологическими режимами их ввода в плазменную струю, варьируя угол и дистанцию, вводя их в менее нагретую часть плазменной струи. Возможность двухсторонней загрузки плазменного потока дисперсным материалом, благодаря встречному расположению ползушек, улучшает равномерность распределения порошка в факеле плазменной струи и снижает его расход. Одновременное распыление различных по свойствам материалов с оптимальными дистанциями их ввода в плазменную струю создает возможность формировать композиционные покрытия. Таким образом, использование предлагаемой приставки к плазмотрону позволяет расширить номенклатуру используемых материалов, формировать композиционные покрытия, улучшить качество покрытий. Источники информации 1. А.с. СССР 927330, МПК В 05 В 7/20, 1982. 2. А.с. СССР 656669, МПК В 05 В 7/20, 1979 (прототип). 1. Приставка к плазмотрону для напыления, содержащая электрически изолированный от сопла с отверстием для подачи напыляемого материала корпус, отличающаяся тем, что в корпусе выполнены не менее чем два диаметрально расположенных отверстия, в каждом из которых установлены с возможностью перемещения вдоль собственной оси ползушки, в пазах которых установлены штуцеры для подачи напыляемого материала. 2. Приставка по п. 1, отличающаяся тем, что штуцеры установлены с возможностью перемещения под углом от 0 до 180 относительно направления плазменной струи. Национальный центр интеллектуальной собственности. 220072, г. Минск, проспект Ф. Скорины, 66.