H05H 15/00 — Способы или устройства для ускорения заряженных частиц, не предусмотренные в предыдущих рубриках

Способ ускорения микро- и наноразмерных заряженных пылевых частиц в послесвечении газоразрядной плазмы

Загрузка...

Номер патента: 17727

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Чубрик Николай Иванович, Филатова Ирина Ивановна, Ажаронок Виктор Васильевич, Трухачёв Федор Михайлович

МПК: H05H 15/00

Метки: плазмы, частиц, наноразмерных, газоразрядной, пылевых, заряженных, послесвечении, ускорения, способ, микро

Текст:

...для исследований параметров пылевой плазмы высокочастотного емкостного разряда приведена на фиг. 1, где 1 - вакуумная камера, 2 - верхний электрод, 3 - нижний электрод, 4 - кварцевые пластины, 5 - излучатель, 6 - высокочастотный генератор, 7 - индуктор, 8 - вольтметр, 9 -вольтметр, 10 проходной конденсатор, 11 - источник питания постоянного тока, 12 -электрический пе 2 17727 1 2013.12.30 реключатель, 2 - электрическая емкость между...

Ионный источник

Загрузка...

Номер патента: 2603

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Томаль Владимир Степанович, Касинский Николай Константинович, Суприянович Владимир Федорович

МПК: H05H 1/24, H05H 15/00

Метки: источник, ионный

Текст:

...атомов вольфрама не только при термическом испарении, но также и в результате распыления ионным пучком источника, так как она находится в зоне ионного пучка с высокой плотностью тока. Этот механизм является дополнительным источником вносимых загрязнений в напыляемые оптические покрытия, сокращает время жизни катода, вызывает необходимость постоянного подрегулирования эмиссионной способности катода. Наличие вышеупомянутых источников...