Патенты с меткой «плазмотрона»
Межэлектродная вставка плазмотрона
Номер патента: 16787
Опубликовано: 28.02.2013
Авторы: Шараховский Леонид Иванович, Шараховский Александр Иванович
МПК: H05H 1/00, B01J 19/08
Метки: плазмотрона, вставка, межэлектродная
Текст:
...холодный газ вводится ниже по потоку, чем более горячий. Благодаря оттеснению по ходу потока горячего газа к оси более холодным вводимым ниже газом, в таком потоке формируется пограничный слой с радиальным температурным градиентом, характеризующимся понижением температуры и, соответственно, повышением плотности по направлению к стенке. В интенсивном поле центростремительных ускорений, достигающих в вихревом потоке многих десятков , такой...
Анод плазмотрона для плазмохимического наненсения покрытий
Номер патента: U 8893
Опубликовано: 30.12.2012
Авторы: Купрацевич Юрий Николаевич, Ворончук Виталий Александрович, Голозубов Андрей Леонидович, Голозубова Анна Алексеевна
Метки: плазмотрона, плазмохимического, анод, покрытий, наненсения
Текст:
...счет повышения стабильности процесса путем создания условий, обеспечивающих поддержание заданной концентрации реагентов в плазменной струе, что приведет к снижению себестоимости изготовления деталей и получению за счет этого экономического эффекта. Для решения поставленной задачи в конструкцию анода плазмотрона внесены изменения. Анод плазмотрона для плазмохимического нанесения покрытий, выполненный в виде детали цилиндрической формы, которая...
Конструкция анода плазмотрона для плазмохимического нанесения покрытий
Номер патента: U 7362
Опубликовано: 30.06.2011
Авторы: Старовойтов Александр Михайлович, Голозубов Андрей Леонидович, Голозубова Анна Алексеевна
МПК: H05H 1/26
Метки: конструкция, нанесения, плазмотрона, анода, покрытий, плазмохимического
Текст:
...входной поверхностью,внутренним коаксиальным каналом для стабилизации плазменной струи и наружным коаксиальным каналом для ламинеризации плазменной струи. Внутренний коаксиальный канал дополнительно снабжен проходными отверстиями для подачи паров реагента. В предлагаемой конструкции анода плазмотрона для плазмохимического нанесения покрытий, ввод реагента в паровой фазе осуществляется раздельно с плазмообразующим газом и происходит не в...