Способ и установка для прямого восстановления в псевдоожиженном слое сыпучего материала, содержащего оксид железа

а) нагревают до температуры ниже 400 С, предпочтительно ниже 350 С, илиЬ) нагревают до температуры выше 580 С, предпочтительно около 650 С, илис) нагревают от температуры 400 С до температуры 580 С И после достижения заданной температуры немедленно направляют в следующую зону псевдоожиженного слоя,при этом прохождение температурного диапазона от 400 С до 580 С осуществляют за время не более 10 мин, предпочтительно не более 5 мин.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что оксидсодержащий материал в любом случае направляют в следующую зону псевдоожиженного слоя немедленно после достижения заданной температуры.3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что прохождение температурного диапазона от 400 С до 580 С осуществляют безостановочно, при этом средний температурный градиент в диапазоне от 400 С до 580 С составляет минимум 20 С/мин, предпочтительно 40 С/мин.4. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры ниже 400 С, предпочтительно ниже 350 С, причем восстановительный газ перед вводом в первую зону псевдоожиженного слоя охлаждают.5. Способ по любому из пп. 1-4, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры ниже 400 С, предпочтительно ниже 350 С, при этом восстановительный газ, выходящий из зоны псевдоожиженного слоя, расположенной после первой зоны псевдоожиженного слоя по направлению потока оксидсодержащего материала, вводят в первую зону псевдоожиженного слоя лишь частично, и восстановительный газ, выходящий из первой зоны псевдоожиженного слоя, по меньшей мере, частично возвращают в первую зону псевдоожиженного слоя.6. Способ по любому из пп. 1-5, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры ниже 400 С, предпочтительно ниже 350 С, при этом оксидсодержащий материал и восстановительный газ подвергают непрямому охлаждению в первой зоне псевдоожиженного слоя, предпочтительно воздухом или водой.7. Способ по любому из пп. 1-6, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры ниже 400 С, предпочтительно ниже 350 С, при этом оксидсодержащий материал и восстановительный газ подвергают прямому охлаждению в первой зоне псевдоожиженного слоя, предпочтительно путем впрыска воды и/или водяного пара через сопла.8. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выше 580 С, предпочтительно около 65 О С, при этом перед введением в первую зону псевдоожиженного слоя весь поток или часть восстановительного газа, подаваемого в первую зону псевдоожиженного слоя, нагревают, предпочтительно непрямым нагревом посредством дь 1 мового газа.9. Способ по любому из пп. 1-3 или 8, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выше 580 С,предпочтительно около 650 С, при этом в первую зону псевдоожиженного слоя подают весь или часть восстановительного газа, выходящего из зоны псевдоожиженного слоя,следующей за первой зоной псевдоожиженного слоя по направлению потока оксидсодержащего материала, и, по меньшей мере, часть свежего и, предпочтительно, неиспользованного восстановительного газа.10. Способ по любому из пп. 1-3 или 8, 9, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выше 580 С,предпочтительно около 650 С, при этом в восстановительный газ, вводимый в первую и/или следующую зону псевдоожиженного слоя, подают кислород или кислородсодержа В 16976 С 12005.06.30щий газ И осуществляют частичное сжигание восстановительного газа перед его вводом в первую зону псевдоожиженного слоя.11. Способ по любому из пп. 1-3 или 8-10, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выше 580 С, предпочтительно около 650 С, при этом вводят кислород или кислородсодержащий газ в первую и/или следующую зону псевдоожиженного слоя и осуществляют частичное сжигание восстановительного газа.12. Способ по любому из пп. 1-3 или 8-11, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выще 580 С, предпочтительно около 650 С, при этом оксидсодержащий материал, загружаемый в первую зону псевдоожиженного слоя, предварительно нагревают до температуры выще 250 С.13. Способ по любому из пп. 1-3 или 8-12, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают до температуры выще 580 С, предпочтительно около 650 С, при этом оксидсодержащий материал и восстановительный газ подвергают непрямому нагреву в первой зоне псевдоожиженного слоя,предпочтительно горячим газом или дымовым газом, или сжиганием горючего газа.14. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что в первой зоне псевдоожиженного слоя оксидсодержащий материал нагревают от 400 С до 580 С, при этом время пребывания оксидсодержащего материала в первой зоне псевдоожиженного слоя меньще,чем в следующих зонах по направлению потока оксидсодержащего материала.15. Установка для осуществления способа по п. 6 или 13, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (24) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы (19) в противоположном направлении, и в реакторе с псевдоожиженным слоем ( 1), расположенном первым по направлению потока оксидсодержащего материала, установлен рекуператор (25, 35).16. Установка по п. 15, отличающаяся тем, что рекуператор (25) соединен с трубопроводом для воды или водяного пара.17. Установка по п. 15, отличающаяся тем, что рекуператор соединен с трубопроводом горячего газа.19. Установка для осуществления способа по п. 14, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы (19) в противоположном направлении, и в реакторе с псевдоожиженным слоем (1), расположенном первым по направлению потока оксидсодержащего материала, установлена горелка, причем горелка выполнена герметичной относительно зоны псевдоожиженного слоя этого реактора с псевдоожиженным слоем.20. Установка для осуществления способа по п. 4, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) че В 16976 С 12005.06.30рез транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передают из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы (19) в противоположном направлении, и в соединительном трубопроводе (19) между реакторами с псевдоожиженным слоем, расположенными первым (1) и вторым (2) по направлению потока оксидсодержащего материала, установлено охлаждающее устройство (29), предпочтительно рекуператор, подключенный к охлаждающей среде, предпочтительно к воздуху или воде.21. Установка для осуществления способа по п. 5, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы ( 19) в противоположном направлении, и от трубопровода (8), отводящего колощниковый газ из реактора с псевдоожиженным слоем ( 1), расположенного первым по направлению потока оксидсодержащего материала, ответвлен боковой трубопровод (31), который сообщается с упомянутым реактором с псевдоожиженным слоем (1) и предпочтительно входит в соединительный трубопровод (19), открывающийся в реактор с псевдоожиженным слоем ( 1).22. Установка по п. 21, отличающаяся тем, что из соединительного трубопровода(19), соединяющего реактор с псевдоожиженным слоем (1), расположенный первым по направлению потока оксидсодержащего материала, со следующим реактором с псевдоожиженным слоем (2), отведен боковой трубопровод (30), ведущий к отводному трубопроводу колощникового газа (8).23. Установка для осуществления способа по п. 7, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы ( 19) в противоположном направлении, а трубопровод (27, 28) для подачи охлаждающей среды открываетсяили непосредственно в реактор с псевдоожиженным слоем (1), расположенный первым по направлению потока оксидсодержащего материала, или в соединительный трубопровод (19), соединяющий первый реактор с псевдоожиженным слоем со следующим реактором с псевдоожиженным слоем.24. Установка для осуществления способа по п. 8, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы ( 19) в противоположном направлении, и в соединительном трубопроводе (19) между реактором с псевдоожиженным слоем (1), расположенным первым по направлению потока оксидсодержащего материала,и вторым реактором с псевдоожиженным слоем (2), имеется устройство нагрева (32),предпочтительно рекуператор, подключенный к дымовому газу или горючему газу.25. Установка по п. 24, отличающаяся тем, что от соединительного трубопровода( 19), соединяющего первый реактор с псевдоожиженным слоем ( 1) со следующим реактором с псевдоожиженным слоем (2), ответвлен боковой трубопровод (30), который ведет вотводной трубопровод колощникового газа (8), отводящий отработанный газ из первого реактора с псевдоожиженным слоем.26. Установка для осуществления способа по п. 9, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) В другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы (19) в противоположном направлении, и дополнительно к соединительному трубопроводу (19) имеется трубопровод для подачи свежего восстановительного газа, которыи входит непосредственно или через соединительный трубопровод (19) в реактор с псевдоожиженным слоем (1), расположенный первым по направлению потока оксидсодержащего материала.27. Установка по п. 26, отличающаяся тем, что от соединительного трубопровода(19), соединяющего первый реактор с псевдоожиженным слоем ( 1) со следующим реактором с псевдоожиженным слоем (2), ответвлен боковой трубопровод (30), который входит в отводной трубопровод колощникового газа (8), отводящий отработанный газ из первого реактора с псевдоожиженным слоем.28. Установка для осуществления способа по п. 10, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем ( 1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (1) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы ( 19) в противоположном направлении, и в один из соединительных трубопроводов (19) и/или в реактор с псевдоожиженным слоем(2), расположенный вторым по направлению потока оксидсодержащего материала, входит трубопровод для подачи кислородсодержащего газа или кислорода.29. Установка по п. 28, отличающаяся тем, что от соединительного трубопровода( 19), соединяющего первый реактор с псевдоожиженным слоем ( 1) со следующим реактором с псевдоожиженным слоем (2), ответвлен боковой трубопровод (30), который ведет в отводной трубопровод колощникового газа (8), отводящий отработанный газ из первого реактора с псевдоожиженным слоем.30. Установка для осуществления способа по п. 11, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой материал передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем ( 1) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (2-4) через транспортировочные трубопроводы (6) в одном направлении, а восстановительный газ передается из одного реактора с псевдоожиженным слоем (4) в другой реактор с псевдоожиженным слоем (3-1) через соединительные трубопроводы ( 19) в противоположном направлении, и в реактор с псевдоожиженным слоем (1), расположенный первым по направлению потока оксидсодержащего материала, входит трубопровод для подачи кислородсодержащего газа или кислорода.31. Установка по п. 30, отличающаяся тем, что от соединительного трубопровода( 19), соединяющего первый реактор с псевдоожиженным слоем ( 1) со следующим реактором с псевдоожиженным слоем (2), ответвлен боковой трубопровод (30), который ведет в отводной трубопровод колощникового газа (8), отводящий отработанный газ из первого реактора с псевдоожиженным слоем.32. Установка для осуществления способа по п. 12, включающая несколько реакторов с псевдоожиженным слоем (1-4), расположенных последовательно для принятия оксидсодержащего материала, в которой оксидсодержащий материал передается из одного реак